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J-GLOBAL ID：201102261905093582   Reference number：11A0411451

Parametric Study for Selective Growth of Single-Walled Carbon Nanotubes in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

プラズマ増強化学蒸着における単層カーボンナノチューブの選択成長のパラメータ研究

Author (4)： NOZAKI Tomohiro (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  KARATSU Takuya (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  YOSHIDA Shinpei (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  OKAZAKI Ken (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 50  Issue： 1,Issue 2  Page： 01AF03.1-01AF03.5  Publication year： Jan. 25, 2011 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： plasma CVD ,  *single-walled carbon nanotube ,  selective growth ,  glow discharge ,  iron catalyst ,  high frequency discharge ,  supported catalyst ,  *multiwalled carbon nanotube ,  *nanostructure ,  Raman spectrum ,  alumina catalyst ,  *double wall carbon nanotube ,  capacitively coupled high frequency discharge
Semi thesaurus term： *plasma-enhanced chemical vapor deposition ,  capacitively coupled discharge

JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Reference (16)：

• M. Meyyappan, L. Delzeit, A. Cassell, and D. Hash: Plasma Sources Sci. Technol.12(2003)205.
• M. Meyyappan: J. Phys. D 42(2009)213001.
• T. Nozaki, Y. Kimura, and K. Okazaki: J. Phys. D 35(2002)2779.
• T. Nozaki, K. Onishi, K. Okazaki, and U. Kortshagen: Carbon 45(2007)364.
• T. Nozaki and K. Okazaki: Plasma Processes Polym.5(2008)300.

Terms in the title (5)： プラズマ増強化学蒸着 ,  単層カーボンナノチューブ ,  選択成長 ,  パラメータ ,  研究