ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、有機EL表示装置、及び、液晶表示装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：野口恭弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010144696
Publication number (International publication number)：2011209670
Application date： Jun. 25, 2010
Publication date： Oct. 20, 2011
Summary：

【課題】ITOスパッタ適性、硬度及び耐熱透明性に優れる硬化膜が得られるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた硬化膜形成方法を提供すること。【解決手段】(成分A)酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、(成分B)式(1)又は式(2)で表される酸発生剤、及び、(成分C)増感剤、を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。R5、R6及びR7はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アルキル基又は芳香族基を表し、アルキル基の場合、互いに連結し環を形成してもよく、R8及びR9はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、X-は共役塩基を表す。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(成分A)酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、 (成分B)式(1)又は式(2)で表される酸発生剤、及び、 (成分C)増感剤、を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , H01L 21/027 , H01L 51/50 , H05B 33/10 , H05B 33/22

FI (7)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , G03F7/004 503Z , H01L21/30 502R , H05B33/14 A , H05B33/10 , H05B33/22 Z

F-Term (66)：

2H090HB07X , 2H090HC05 , 2H090HC11 , 2H090HC13 , 2H090HD01 , 2H125AE13P , 2H125AE15P , 2H125AE18P , 2H125AF14P , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF20P , 2H125AF26P , 2H125AF27P , 2H125AF33P , 2H125AF35P , 2H125AF45P , 2H125AH05 , 2H125AH06 , 2H125AH07 , 2H125AH12 , 2H125AH13 , 2H125AH19 , 2H125AJ04Y , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ44Y , 2H125AJ63X , 2H125AJ63Y , 2H125AJ64X , 2H125AJ64Y , 2H125AJ85Y , 2H125AM26P , 2H125AM27P , 2H125AN23P , 2H125AN29P , 2H125AN36P , 2H125AN39P , 2H125AN41P , 2H125AN55P , 2H125AN82P , 2H125AN85P , 2H125AN89P , 2H125AN92P , 2H125AN93P , 2H125BA01P , 2H125BA05P , 2H125BA11P , 2H125BA22P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA24 , 2H125CB03 , 2H125CB05 , 2H125CB06 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107CC05 , 3K107CC24 , 3K107DD90 , 3K107DD97 , 3K107GG06 , 3K107GG28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-028876 Applicant：JSR株式会社
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-023212 Applicant：住友化学工業株式会社
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-402246 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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