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J-GLOBAL ID：201103009932172012

可視光応答性ルチル型二酸化チタン光触媒

Inventor： 正橋 直哉 ,  水越 克彰 ,  古原 忠 ,  宮本 吾郎 ,  千星 聡 ,  大津 直史
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学 ,  公立大学法人大阪府立大学 ,  国立大学法人北見工業大学
Agent (7)： 重信 和男 ,  水野 昭宣 ,  清水 英雄 ,  高木 祐一 ,  中野 佳直 ,  溝渕 良一 ,  秋庭 英樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009280447
Publication number (International publication number)：2011120998
Application date： Dec. 10, 2009
Publication date： Jun. 23, 2011
Summary：

【課題】工業的生産に適しており、且つ、簡単な手法で、均一で緻密なものとして、光触媒活性に優れた二酸化チタン薄膜を有する基材であって、さらに可視光に対する応答性に優れている二酸化チタン薄膜を有する基材を得る技術を提供する。【解決手段】基板チタンあるいはチタン合金に、窒化物を形成しない程度に窒化処理を施し、それを基板にして陽極酸化を行ない、陽極酸化後に熱処理を施すことにより、基板にドープした固溶窒素を酸化膜に拡散させ、電解浴から陽極酸化膜に混入する硫黄と共に、二酸化チタンへの複合添加を行う。このようにして作製した二酸化チタンは窒素と硫黄がドープされたもので、400nm以上の長波長の光照射下で、有機物酸化分解および超親水性に優れる。またこれらの機能は紫外線照射下での機能の劣化を伴わない。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

チタンまたはチタン合金からなる基材の表面に陽極酸化を施して光触媒活性ルチル型二酸化チタン被覆材を製造する方法において、当該基材のチタンまたはチタン合金に窒化処理を施し、該窒化処理された基材を陽極酸化に付し、前記陽極酸化を施して作製した膜に、熱処理を施して、可視光領域で高い光触媒活性を示し且つ窒素と硫黄がドープされたルチル型二酸化チタン被覆材料を得ることを特徴とする可視光応答性に優れた光触媒ルチル型二酸化チタンを製造する方法。

IPC (4)：

B01J 35/02 ,  B01J 37/02 ,  B01D 53/86 ,  B01J 37/34

FI (4)：

B01J35/02 J ,  B01J37/02 301K ,  B01D53/36 J ,  B01J37/34

F-Term (49)：

4D048AA22 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA46X ,  4D048BB03 ,  4D048EA01 ,  4D048EA03 ,  4G047CA02 ,  4G047CA03 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G047CD07 ,  4G169AA01 ,  4G169AA08 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA18 ,  4G169BA48A ,  4G169BB11A ,  4G169BB11B ,  4G169BB11C ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC50C ,  4G169BD06A ,  4G169BD06B ,  4G169BD08A ,  4G169BD08B ,  4G169CA10 ,  4G169CA17 ,  4G169EA07 ,  4G169EA11 ,  4G169EC22X ,  4G169EC22Y ,  4G169FA03 ,  4G169FA04 ,  4G169FB02 ,  4G169FB42 ,  4G169FC07 ,  4G169HA02 ,  4G169HB03 ,  4G169HC02 ,  4G169HC35 ,  4G169HD05 ,  4G169HE03 ,  4G169HE07 ,  4G169HF03 ,  4G169HF09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

• 陽極電解酸化処理によるアナターゼ型酸化チタン皮膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-053609   Applicant：奈良県, 株式会社昭和
• 光触媒用チタン陽極酸化皮膜の生成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-042857   Applicant：大和ハウス工業株式会社
• 金属元素含有酸化チタン皮膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-161339   Applicant：株式会社ニコン
• 二酸化チタン微粒子およびその製造方法ならびに可視光活性型光触媒の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-301137   Applicant：東芝セラミックス株式会社
• 光触媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-184955   Applicant：株式会社豊田中央研究所
• 親水性材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-017634   Applicant：株式会社豊田中央研究所
• 光触媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-018551   Applicant：株式会社豊田中央研究所
• 光触媒性複合材及び光触媒性コーティング剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-075067   Applicant：東陶機器株式会社
• 光応答性材料及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-168797   Applicant：エコデバイス株式会社
• ルチル型二酸化チタン光触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-327669   Applicant：国立大学法人東北大学, 公立大学法人大阪府立大学

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• "高濃度硫酸水溶液中での陽極酸化によるルチル相を主体とした二酸化チタン光触媒の調製"