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J-GLOBAL ID:201103010612975433

注入管装置および注入工法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 久門 享 ,  久門 保子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009290642
Publication number (International publication number):2011153401
Application date: Dec. 22, 2009
Publication date: Aug. 11, 2011
Summary:
【課題】低圧注入の下で可能な限り多くの注入材を可能な限り広範囲に効率的に注入することができる注入管装置および注入工法を提供する。【解決手段】削孔1内に注入材吐出口8aを備えた注入外管8を建て込む。当該注入外管8内に注入内管9を建て込む。注入外管8に注入材吐出口8aを開閉する逆止弁5と、当該逆止弁5を含む管軸方向の一定範囲Lを覆う柱状空間導水部材6をそれぞれ取り付ける。削孔1と注入外管8との間の間隙3内にシールグラウト4を充填する。シールグラウト4としてセメントまたはベントナイトを充填する。【選択図】図4
Claim (excerpt):
削孔内に設置された、注入材吐出口と逆止弁を備えた注入管と、前記注入材吐出口および逆止弁を有する部分を含む管軸方向の一定範囲を覆うように前記注入管に取り付けられた柱状空間導水部材と、前記削孔の孔壁と前記注入管との間隙内に充填されたシールグラウトとを備えてなることを特徴とする注入管装置。
IPC (1):
E02D 3/12
FI (1):
E02D3/12 101
F-Term (19):
2D040AB01 ,  2D040BC01 ,  2D040BD05 ,  2D040CA01 ,  2D040CA02 ,  2D040CA10 ,  2D040CB03 ,  2D040CC02 ,  2D040CD03 ,  2D040DA03 ,  2D040DA08 ,  2D040DA12 ,  2D040DA13 ,  2D040DA14 ,  2D040DA17 ,  2D040DA19 ,  2D040DC02 ,  2D040FA08 ,  2D040FA13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • 地盤注入工法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2006-008276   Applicant:強化土エンジニヤリング株式会社, 日特建設株式会社
  • 多点地盤注入工法および装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-029458   Applicant:強化土エンジニヤリング株式会社, 日本基礎技術株式会社, 原工業株式会社
  • 特許第2772637号
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Cited by examiner (7)
  • 地盤注入工法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2006-008276   Applicant:強化土エンジニヤリング株式会社, 日特建設株式会社
  • 多点地盤注入工法および装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-029458   Applicant:強化土エンジニヤリング株式会社, 日本基礎技術株式会社, 原工業株式会社
  • 特許第2772637号
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