マイクロ構造体の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：阿部琢磨 , 黒岩創吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010037922
Publication number (International publication number)：2011174119
Application date： Feb. 23, 2010
Publication date： Sep. 08, 2011
Summary：

【課題】1個のモールドからモールドの面積の複数倍の大きな面積のマイクロ構造体を得る。【解決手段】柱状の凸部と、前記凸部を囲む連続した凹部を有する微細構造体を有し、前記微細構造の凹部の底部に導電性が付与されたモールドを用意する工程と、微細構造体の凹部の底部からめっきして前記微細構造体の凹部に第1のめっき層を形成する工程と、前記第1のめっき層上の全部または少なくとも一部に中間めっき層を形成する工程と、前記中間めっき層上に第2のめっき層を形成する工程と、前記モールドと前記中間めっき層をエッチングにより除去して、前記第1のめっき層と前記第2のめっき層の全部または少なくとも一部分が分離されたマイクロ構造体を得る工程と、を有するマイクロ構造体の製造方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

柱状の凸部と、前記凸部を囲む連続した凹部を有する微細構造体を有し、前記微細構造の凹部の底部に導電性が付与されたモールドを用意する工程と、微細構造体の凹部の底部からめっきして前記微細構造体の凹部に第1のめっき層を形成する工程と、前記第1のめっき層上の全部または少なくとも一部に中間めっき層を形成する工程と、前記中間めっき層上に第2のめっき層を形成する工程と、前記モールドと前記中間めっき層をエッチングにより除去して、前記第1のめっき層と前記第2のめっき層の全部または少なくとも一部分が分離されたマイクロ構造体を得る工程と、を有することを特徴とするマイクロ構造体の製造方法。

IPC (2)：

C25D 1/00 , G02B 5/18

FI (2)：

C25D1/00 381 , G02B5/18

F-Term (5)：

2H249AA03 , 2H249AA13 , 2H249AA37 , 2H249AA44 , 2H249AA58

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

ダブルテープ式アパチャーグリルの検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-110782 Applicant：住友金属鉱山株式会社
ナノ構造コンポーネントを作製するためのプロセス
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-506303 Applicant：チ・エレ・エッフェ・ソシエタ・コンソルティーレ・ペル・アチオニ
微細構造体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-265093 Applicant：キヤノン株式会社

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Cited by examiner (4)

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Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-110782 Applicant：住友金属鉱山株式会社
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Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-265093 Applicant：キヤノン株式会社

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