表面弾性波を用いたマイクロビーム照射領域検出方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (11)：社本一夫 , 小野新次郎 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 桜井周矩 , 神田藤博 , 田中英夫 , 細川伸哉 , 深澤憲広 , 平山晃二
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2004232212
Publication number (International publication number)：2006047244
Patent number：4448948
Application date： Aug. 09, 2004
Publication date： Feb. 16, 2006
Claim (excerpt)：

【請求項1】標的物質に、マイクロメートルレベルのビーム形状をもつ電子、軽イオン及び重イオンから選択される粒子線を、照射することによって励起する表面弾性波を用いて、照射面におけるビームの形状、強度、頻度を測定する、表面弾性波を用いたマイクロビーム照射領域検出方法。

IPC (3)：

G01T 1/29 ( 200 6.01) , G01N 29/00 ( 200 6.01) , G21K 5/04 ( 200 6.01)

FI (3)：

G01T 1/29 A , G01N 29/00 501 , G21K 5/04 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

荷電粒子ビーム計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-325021 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭61-062887
特開昭63-274891

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Cited by examiner (9)

荷電粒子ビーム計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-325021 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭61-062887
特開昭63-274891

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