Pat
J-GLOBAL ID:201103034108570828
有機ポリマー系の低レベル放射性廃棄物の処理方法及び処理プラント
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
飯田 昭夫
, 江間 路子
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2004267357
Publication number (International publication number):2006084237
Patent number:4436738
Application date: Sep. 14, 2004
Publication date: Mar. 30, 2006
Claim (excerpt):
【請求項1】 有機ポリマー系の低レベル放射性廃棄物を、酸化ルテニウム触媒の存在下で超臨界水反応させることで、前記低レベル放射性廃棄物を分解気化・液状化させ、前記低レベル放射性廃棄物に含まれている放射性核種の不溶化物を生成させて固相移行(分離)させる低レベル放射性廃棄物の処理方法において、
低レベル放射性廃棄物が、放射性核種として、鉄とともに少なくともコバルト、ストロンチウムの一方を含み、
前記超臨界水反応に際して、前記各放射性核種の非放射性同位体であるキャリヤーとともに非放射性水酸化鉄(III)を添加する、
ことを特徴とする低レベル放射性廃棄物の処理方法。
IPC (6):
G21F 9/30 ( 200 6.01)
, B01J 3/00 ( 200 6.01)
, B29B 17/00 ( 200 6.01)
, C08J 11/14 ( 200 6.01)
, C08J 11/16 ( 200 6.01)
, G21F 9/10 ( 200 6.01)
FI (7):
G21F 9/30 561 A
, B01J 3/00 A
, B29B 17/00
, C08J 11/14 ZAB
, C08J 11/16
, G21F 9/10 E
, G21F 9/10 F
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
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超臨界水を用いた低レベル放射性廃棄物の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-028934
Applicant:朴基哲, 冨安博, 中部電力株式会社
-
固体材料とそれを使用した放射性物質含有廃液処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-070256
Applicant:株式会社千代田テクノル, 株式会社化研, 小西淳二
-
廃液処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-097715
Applicant:富士産業株式会社
-
溶液中の遷移元素の分離方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-401559
Applicant:株式会社日立製作所
-
低レベル放射性廃液中のヨウ素の除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-104729
Applicant:株式会社日立製作所
-
放射性固体有機物の処理方法および処理システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-047254
Applicant:株式会社日立製作所
-
イオン交換樹脂の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-172459
Applicant:株式会社東芝
-
特開昭63-093310
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Cited by examiner (8)
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Application number:特願平9-172459
Applicant:株式会社東芝
-
特開昭63-093310
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Article cited by the Patent:
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