光干渉断層装置、方法、およびシステム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：宮崎昭夫 , 石橋政幸 , 緒方雅昭
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2011501911
Publication number (International publication number)：2011515194
Application date： Mar. 17, 2009
Publication date： May. 19, 2011
Summary：

本発明の一態様によれば、光干渉断層装置は、使用者の少なくとも1つの眼を受け入れるアイピースと、アイピースを通して使用者の眼に入るように向けられている光を出力する光源と、使用者の眼から反射した光を使用して光干渉を発生させるように構成されている干渉計と、光干渉を検出するように配置されている光検出器と、検出器に結合されている電子装置とを有している。干渉計を利用して得られた光干渉断層計測値に基づいて危険性評価を実施するように電子装置は構成可能である。出力装置を電子装置に電気的に結合することが可能で、危険性評価を使用者に出力するように構成することができる。光干渉断層装置は、自己管理可能であって、アイピースは単眼装置または両眼装置とすることができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

使用者の少なくとも1つの眼を受け入れるアイピースと、前記アイピースを通して前記使用者の眼に入るように向けられている光を出力する光源と、前記使用者の眼から反射した光を使用して光干渉を発生させるように構成されている干渉計と、前記光干渉を検出するように配置されている光検出器と、前記光検出器に結合されており、前記干渉計を使用して得られた光干渉断層計測値に基づいて危険性評価の分析を実施するように構成されている電子装置と、前記電子装置に電気的に結合されており、前記危険性評価を前記使用者に出力するように構成されている出力装置と、を有する光干渉断層装置。

IPC (3)：

A61B 3/10 , A61B 3/028 , G01N 21/17

FI (3)：

A61B3/10 R , A61B3/02 A , G01N21/17 620

F-Term (17)：

2G059AA06 , 2G059BB12 , 2G059EE02 , 2G059EE09 , 2G059FF01 , 2G059GG01 , 2G059JJ05 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ15 , 2G059JJ22 , 2G059KK04 , 2G059MM05 , 2G059MM09 , 2G059MM10 , 2G059PP04 , 2G059PP06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

深度分解能が調節可能である多機能性の光学写像装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2004-516391 Applicant：オーティーアイオプサルミックテクノロジーズインコーポレイテッド
焦点特性とコヒーレンス・ゲートを制御するために動的フィードバックを用いた、光干渉トモグラフィにおける写像性と感度を改善するための方法及び装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2002-585939 Applicant：ザ・ジェネラル・ホスピタル・コーポレイション
特開昭57-153635

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