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J-GLOBAL ID：201103051890147949

UF膜モジュールの洗浄方法

Inventor：
志水 浩三

About 志水 浩三


Applicant, Patent owner：
栗田工業株式会社

About 栗田工業株式会社


Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009198407
Publication number (International publication number)：2011045856
Application date： Aug. 28, 2009
Publication date： Mar. 10, 2011
Summary：
【課題】UF膜モジュールを超純水製造装置に組み込む前の洗浄工程における、洗浄終了時の空気吸い込みに起因する汚染を防止して、高清浄なUF膜モジュールを供給する。【解決手段】超純水製造装置に使用されるUF膜モジュールを洗浄する方法において、最終洗浄水として超純水を使用して洗浄した後に、モジュール内の超純水を清浄ガスによって押し出して排出させるUF膜モジュールの洗浄方法。UF膜モジュールの洗浄終了時に、UF膜モジュール内の超純水を清浄なガスで押し出して排出しておくことにより、UF膜モジュール内の超純水の流出に伴う雰囲気中の空気のUF膜モジュール内への流入が防止され、この空気による汚染の問題を解決することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
超純水製造装置に使用されるUF膜モジュールを洗浄する方法において、最終洗浄水として超純水を使用して洗浄した後に、モジュール内の超純水を清浄なガスによって押し出して排出させることを特徴とするUF膜モジュールの洗浄方法。
IPC (3)：
B01D 65/02 ,  C02F 1/44 ,  B01D 61/14
FI (5)：
B01D65/02 ,  C02F1/44 C ,  C02F1/44 J ,  B01D61/14 ,  B01D65/02 520
F-Term (15)：
4D006GA06 ,  4D006HA02 ,  4D006HA03 ,  4D006KC02 ,  4D006KC03 ,  4D006KC14 ,  4D006KC16 ,  4D006KC20 ,  4D006KD12 ,  4D006KD30 ,  4D006MA01 ,  4D006MC62X ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PC02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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