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J-GLOBAL ID：201103051992154125

光学物品の製造方法

Inventor：
西本 圭司

About 西本 圭司

, 
野口 崇

About 野口 崇


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (3)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009185495
Publication number (International publication number)：2011039218
Application date： Aug. 10, 2009
Publication date： Feb. 24, 2011
Summary：
【課題】帯電防止性の良好な層を形成できる光学物品の製造方法を提供する。【解決手段】光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第1の層を形成する工程と、チタン、ニオブ、チタンの酸化物およびニオブの酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1つの組成をイオンアシスト蒸着することにより、第1の層の表層の少なくとも一部を低抵抗化する工程とを有する光学物品の製造方法を提供する。チタン-ニオブ系でありながら高温プロセスを用いずに表面の電気抵抗を下げることができ、また、高価なインジウムを用いずに表面の電気抵抗を下げることができる。【選択図】図7
Claim (excerpt)：
光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第1の層を形成することと、 チタン、ニオブ、チタンの酸化物およびニオブの酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1つの組成をイオンアシスト蒸着することにより、前記第1の層の表層の少なくとも一部を低抵抗化することとを有する、光学物品の製造方法。
IPC (5)：
G02B 1/10 ,  G02B 1/11 ,  G02C 7/02 ,  G02C 7/00 ,  C23C 14/08
FI (5)：
G02B1/10 Z ,  G02B1/10 A ,  G02C7/02 ,  G02C7/00 ,  C23C14/08 N
F-Term (25)：
2H006BA01 ,  2H006BA03 ,  2H006BA04 ,  2K009AA08 ,  2K009AA09 ,  2K009AA15 ,  2K009BB11 ,  2K009CC03 ,  2K009DD03 ,  2K009DD07 ,  2K009EE03 ,  2K009EE05 ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA01 ,  4K029BA17 ,  4K029BA43 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BC09 ,  4K029CA02 ,  4K029CA09 ,  4K029DB21
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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