Pat
J-GLOBAL ID:201103061259760804
半導体装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010236650
Publication number (International publication number):2011171702
Application date: Oct. 21, 2010
Publication date: Sep. 01, 2011
Summary:
【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い半導体装置を提供する。【解決手段】第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、第4の配線と、第1のトランジスタ160と、第2のトランジスタ162と、を有し、第1のトランジスタ160は、半導体材料を含む基板に設けられ、第2のトランジスタ162は酸化物半導体層を含んで構成され、第1のトランジスタ160のゲート電極と、第2のトランジスタ162のソース・ドレイン電極とは、電気的に接続され、第1の配線と、第1のトランジスタ160のソース電極とは、電気的に接続され、第2の配線と、第1のトランジスタ160のドレイン電極とは、電気的に接続され、第3の配線と、第2のトランジスタ162のソース・ドレイン電極の他方とは、電気的に接続され、第4の配線と、第2のトランジスタ162のゲート電極とは、電気的に接続される。【選択図】図1
Claim (excerpt):
第1の配線と、
第2の配線と、
第3の配線と、
第4の配線と、
第1のゲート電極、第1のソース電極、および第1のドレイン電極を有する第1のトランジスタと、
第2のゲート電極、第2のソース電極、および第2のドレイン電極を有する第2のトランジスタと、を有し、
前記第1のトランジスタは、半導体材料を含む基板に設けられ、
前記第2のトランジスタは、酸化物半導体層を含んで構成され、
前記第1のゲート電極と、前記第2のソース電極または前記第2のドレイン電極の一方とは、電気的に接続され、
前記第1の配線と、前記第1のソース電極とは、電気的に接続され、
前記第2の配線と、前記第1のドレイン電極とは、電気的に接続され、
前記第3の配線と、前記第2のソース電極または前記第2のドレイン電極の他方とは、電気的に接続され、
前記第4の配線と、前記第2のゲート電極とは、電気的に接続された半導体装置。
IPC (12):
H01L 21/824
, H01L 27/108
, H01L 29/788
, H01L 29/792
, H01L 27/10
, H01L 27/115
, H01L 21/823
, H01L 27/088
, H01L 29/786
, C23C 14/08
, G11C 11/405
, H01L 27/00
FI (13):
H01L27/10 321
, H01L29/78 371
, H01L27/10 481
, H01L27/10 434
, H01L27/08 102E
, H01L29/78 618B
, H01L29/78 618G
, H01L29/78 613B
, C23C14/08
, G11C11/34 352B
, H01L27/08 102B
, H01L27/08 102H
, H01L27/00 301A
F-Term (191):
4K029AA06
, 4K029AA24
, 4K029BA43
, 4K029BD01
, 4K029CA06
, 4K029DA08
, 4K029DC33
, 4K029DC34
, 4K029FA04
, 4K029GA00
, 5F048AA07
, 5F048AB01
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, 5F048AC10
, 5F048BA01
, 5F048BA14
, 5F048BA16
, 5F048BA19
, 5F048BA20
, 5F048BB09
, 5F048BB11
, 5F048BB12
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, 5F048BC06
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, 5F048BF06
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, 5F048BF15
, 5F048BF16
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, 5F110EE05
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, 5F110GG58
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, 5F110HJ13
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, 5F110NN78
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, 5M024CC20
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, 5M024PP01
, 5M024PP02
, 5M024PP03
, 5M024PP04
, 5M024PP05
, 5M024PP07
, 5M024PP09
, 5M024PP10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
半導体メモリ装置およびその読み出し方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-308963
Applicant:ソニー株式会社
-
半導体装置、半導体記憶装置及びその製造方法、並びに携帯情報機器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-175634
Applicant:シャープ株式会社
-
薄膜トランジスタ及び表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-015692
Applicant:キヤノン株式会社
-
無機結晶性配向膜及びその製造方法、半導体デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-320678
Applicant:富士フイルム株式会社
-
電子素子及び電子素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-121932
Applicant:財団法人高知県産業振興センター, カシオ計算機株式会社
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