補償光学用参照点光源の作成法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2003092758
Publication number (International publication number)：2004303827
Patent number：3951021
Application date： Mar. 28, 2003
Publication date： Oct. 28, 2004
Claim (excerpt)：

【請求項1】映像装置で撮影される被測定物体と上記映像装置との間に存在する媒質のゆらぎ、及び上記映像装置に設置される対物レンズの収差に起因する物体像の歪みを補正するための補償光学装置を駆動する補償光学用参照点光源の作成法であって、上記被測定物体の近傍に金属や誘電体の微粒子を光ピンセット装置を用いて非接触で捕捉し、該捕捉された微粒子に鋭く絞った光を入射して点光源を作成し、該点光源から球面波状に放射される反射光を上記補償光学装置を駆動するための参照光として利用することを特徴とする補償光学用参照点光源の作成法。

IPC (3)：

H01S 3/00 ( 200 6.01) , G02B 26/06 ( 200 6.01) , G02B 21/00 ( 200 6.01)

FI (3)：

H01S 3/00 A , G02B 26/06 , G02B 21/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

光放射圧による微粒子の保持方法および変位測定方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-125488 Applicant：日本電信電話株式会社
簡単な適応性光学システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-330665 Applicant：ヒューズ・エアクラフト・カンパニー
補償光学装置とこれを用いた天体望遠鏡,光データリンク,レーザ加工機
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-031989 Applicant：株式会社日立製作所

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