レーザー駆動陽子線を用いる薄層放射化装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：小野新次郎 , 社本一夫 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 松山美奈子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009179743
Publication number (International publication number)：2011033468
Application date： Jul. 31, 2009
Publication date： Feb. 17, 2011
Summary：

【課題】レーザー駆動陽子線を利用する小型の薄層放射化装置を提供する。【解決手段】高強度レーザー発生装置2と真空容器3とから構成されていてレーザー駆動陽子線を発生させる陽子線発生部10と、陽子線を放射化対象5に衝突させて薄層放射化する放射化部20と、を具備するレーザー駆動陽子線を用いる薄層放射化装置。高強度レーザー発生装置2は、1017W/cm2〜1022W/cm2のレーザー強度を有する高強度レーザー光を発生させる。真空容器3は、高強度レーザー光を導入するレーザー光導入部31と、高強度レーザー光を集光する集光ミラー11と、集光ミラー11によって収束されるレーザー光が衝突するターゲット12と、ターゲット12から発散する陽子線の軌道上に設けられたデブリシールド13と、レーザー駆動陽子線17を大気中に取り出すための取り出し窓33と、を具備する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

高強度レーザー発生装置と真空容器とから構成されていてレーザー駆動陽子線を発生させる陽子線発生部と、陽子線を放射化対象に衝突させて薄層放射化する放射化部と、を具備するレーザー駆動陽子線を用いる薄層放射化装置であって、当該高強度レーザー発生装置は、中心波長が約800〜1100nm、20fs〜500fsの超高強度極短パルスレーザー発生装置であり、当該真空容器は、当該高強度レーザー光を導入するレーザー光導入部と、当該高強度レーザー光を集光する集光ミラーと、当該集光ミラーによって収束されるレーザー光が衝突するターゲットと、当該ターゲットから発散する陽子線の軌道上に設けられたデブリシールドと、レーザー駆動陽子線を大気中に取り出すための取り出し窓と、を具備し、 1017W/cm2〜1022W/cm2の集光強度で、1ps〜100nsのパルス幅を有する陽子線を発生させることを特徴とするレーザー駆動陽子線利用薄層放射化装置。

IPC (3)：

G21G 1/10 , G21K 1/00 , G21K 5/08

FI (4)：

G21G1/10 , G21K1/00 A , G21K5/08 R , G21K5/08 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

高エネルギー粒子の発生方法およびこれを利用した放射化分析方法と、高エネルギー粒子発生装置および放射化分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-295211 Applicant：財団法人電力中央研究所
高エネルギー連続エネルギーイオン選択システム、イオン線治療システム、およびイオン線治療施設
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-515029 Applicant：フォックス・チェイス・キャンサー・センター
粒子線治療装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-197382 Applicant：独立行政法人日本原子力研究開発機構

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