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J-GLOBAL ID：201202236598867365   Reference number：12A1437133

希ガスイオン照射による水酸化マグネシウムのスパッタ率測定

Author (8)： IKUSE KAZUMASA (大阪大 工) ,  YOSHIMURA SATORU (大阪大 工) ,  KIUCHI MASATO (大阪大 工) ,  KIUCHI MASATO (産業技術総合研) ,  TERAUCHI MASAHARU (パナソニック) ,  NISHITANI MIKIHIKO (大阪大 工) ,  NISHITANI MIKIHIKO (パナソニック) ,  HAMAGUCHI SATOSHI (大阪大 工)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
Volume： 73rd  Page： ROMBUNNO.13P-E2-13  Publication year： Aug. 27, 2012 
JST Material Number： Y0055B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： ion irradiation ,  *ion beam sputtering ,  *Magnesium Hydroxide ,  panel ,  protective film ,  Helium ,  Neon ,  Krypton ,  Xenon ,  film thickness
Semi thesaurus term： ion beam sputtering ,  plasma display panel

JST classification (1)： Sputtering  (BK16110U)

Terms in the title (4)： 希ガス ,  イオン照射 ,  水酸化マグネシウム ,  スパッタ