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J-GLOBAL ID：201202264380069304   Reference number：12A0588780

Hot-wire法により生成した水素ラジカルによるレジスト材料の分解反応機構 I

Author (6)： ARAI YU (金沢工大) ,  WATANABE MAKOTO (金沢工大) ,  KONO AKIHIKO (金沢工大) ,  YAMAGISHI TADAAKI (金沢大) ,  HORIBE HIDEO (金沢工大) ,  HORIBE HIDEO (大阪大)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
Volume： 59th  Page： ROMBUNNO.16A-A5-10  Publication year： Feb. 29, 2012 
JST Material Number： Y0054B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *radical ,  *Hydrogen ,  *resist ,  *decomposition reaction ,  *chemical vapor deposition ,  phenolic resin ,  polystyrene ,  polyvinyl phenol ,  polymethylstyrene ,  polyvinyl chloride ,  polyacrylic acid ,  Polymethyl Methacrylate ,  polyisobutylene ,  Humidity ,  crosslinking ,  aromatic compound ,  *hydrogen radical
Semi thesaurus term： *hot-wire CVD

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： HOT ,  水素ラジカル ,  レジスト材料 ,  分解反応