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J-GLOBAL ID：201202278032206099   Reference number：12A0616126

Investigation of deposition condition of LiMn₂O₄ films prepared by RF magnetron sputtering

RFマグネトロンスパッタリングで作製したLiMn₂O₄膜の成長条件の研究

Author (2)： ISAI Masaaki (Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN) ,  NAKAMURA Mitsuhiro (Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
Material： Transactions of the Materials Research Society of Japan  (Trans Mater Res Soc Jpn)
Volume： 37  Issue： 1  Page： 99-101  Publication year： Mar. 2012 
JST Material Number： L4468A  ISSN： 1382-3469  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *manganate ,  *lithium compound ,  oxide ,  thin film ,  *magnetron sputtering ,  *sputtered deposition ,  substrate (plate) ,  *Aluminum ,  *thin film growth ,  *lithium secondary battery ,  *parameter ,  output ,  time dependence ,  Argon ,  Oxygen ,  ratio ,  flow rate ,  pressure effect ,  film thickness ,  growth rate ,  lithium manganate ,  *oxide thin film ,  flow ratio
Semi thesaurus term： pressure dependence

JST classification (2)： Secondary batteries  (YB04030K) ,  Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (20)：

• 1. Desilvestro and O. Haas, J.Electrochem.Soc.137, 5C (1990).
• 2. R. Koksbang, J. Barker, H. Shi, and M. Y. Saidi, Solid State Ionics 84, 1 (1996).
• 3. M. M. Thackeray, A de Kock, M. H. Rossouw, D. Liles, R. Bittihn, and D. Hoge, J.Electrochem.Soc.139, 363 (1992).
• 4. R. J. Gummow, A de Kock, and M. M. Thackeray, Solid State Ionics, 69, 59 (1994).
• 5. J. C. Hunter, J. Solid State. Chem.39, 142 (1981).

Terms in the title (4)： RFマグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  成長条件 ,  研究