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J-GLOBAL ID:201203001925399016

層ごとのスプレー法を介したUV反射率を有する構造色

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  小林 良博 ,  出野 知 ,  小林 直樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011213056
Publication number (International publication number):2012073614
Application date: Sep. 28, 2011
Publication date: Apr. 12, 2012
Summary:
【課題】紫外反射率を有する構造色を作るための方法を提供すること。【解決手段】紫外反射率を有する構造色を作るための方法が提供される。この方法は、噴霧ノズル、第1のナノ粒子溶液および第2のナノ粒子溶液を提供することを含む。噴霧ノズルは複数の第1のナノ粒子溶液の層をスプレーするのに使用され、この複数の第1のナノ粒子の層は低屈折率のスタックを形成する。いくつかの例において、ポリマー溶液は、各第1のナノ粒子溶液の層のスプレーの前および/または後でスプレーされることができる。噴霧ノズルはまた、複数の第2のナノ粒子溶液の層をスプレーするのに使用され、この複数の第2のナノ粒子の層は、高屈折率のスタックを形成する。第1のナノ粒子溶液の層に類似して、ポリマー溶液は各第2のナノ粒子溶液の層のスプレーの前および/または後でスプレーされることができる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
紫外反射率を有する構造色を作るための方法であって、 噴霧ノズルを提供する工程と、 第1のナノ粒子溶液および第2のナノ粒子溶液を提供する工程と、 複数の第1のナノ粒子溶液の層をスプレーする工程と、 該複数の第1のナノ粒子の層が、低屈折率のスタックを形成する工程と、 複数の第2のナノ粒子溶液の層をスプレーする工程と、 該複数の第2のナノ粒子の層が高屈折率のスタックを形成する工程と、 複数の交互の低屈折率のスタックおよび高屈折率のスタックを形成するために、追加の層をスプレーする工程であって、該低屈折率のスタックが該高屈折率のスタックにわたって伸び、そして該高屈折率のスタックが該低屈折率のスタックにわたって伸びる工程と、 複数の交互の低屈折率層および高屈折率層を形成するために、該低屈折率のスタックおよび該高屈折率のスタックを焼成する工程と、 を含み、 該交互の低屈折率層および高屈折率層が、紫外領域における電磁放射線および可視領域における狭帯域の電磁放射線を反射する二重の反射スペクトルを有する、方法。
IPC (3):
G02B 5/28 ,  G02B 5/26 ,  B05D 1/02
FI (3):
G02B5/28 ,  G02B5/26 ,  B05D1/02 Z
F-Term (18):
2H048FA05 ,  2H048FA07 ,  2H048FA09 ,  2H048FA15 ,  2H048FA24 ,  2H048GA04 ,  2H048GA12 ,  2H048GA23 ,  2H048GA33 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61 ,  4D075AA01 ,  4D075AE03 ,  4D075BB28Z ,  4D075CA25 ,  4D075CB04 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
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