薄片状または粉末状光学薄膜の製造方法及び製造装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：石島茂男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002148251
Publication number (International publication number)：2003344647
Application date： May. 22, 2002
Publication date： Dec. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】簡便な工程により基板若しくは構成膜同士で光学薄膜を剥離可能とし、これにより薄片状または粉末状光学薄膜を効率良く製造する方法と、このための簡素な装置構造の製造装置とを提供する。【解決手段】五酸化タンタル36から成る高屈折率誘電体薄膜と二酸化シリコン37から成る低屈折率誘電体薄膜とカーボングラファイト38から成る剥離用下地膜のそれぞれの蒸発源ルツボ33、34、35と、各蒸発源に対向配置した回転基板32とを備え、各蒸発源と回転基板32との間に、蒸発源からの蒸発を遮蔽可能とする可動シャッタ41、42、43と、回転基板32上の堆積膜の膜厚を補正する膜厚補正板46とを設けて構成される薄片状または粉末状光学薄膜の製造装置を用い、高屈折率誘電体膜と低屈折率誘電体膜との交互層を繰り返し単位として積層形成される交互多層膜から成る光学薄膜を、カーボン薄膜から成る剥離用下地膜を介して基板上に形成する。

Claim (excerpt)：

光学薄膜を剥離して成る薄片状または粉末状光学薄膜を製造する方法において、前記光学薄膜は、屈折率1.8以上の高屈折率誘電体膜と屈折率1.6以下の低屈折率誘電体膜との交互層を繰り返し単位として積層形成される交互多層膜から成ることを特徴とする薄片状または粉末状光学薄膜の製造方法。

IPC (6)：

G02B 5/28 , C23C 14/06 , C23C 14/24 , G02B 1/11 , C09C 3/00 , C09C 3/06

FI (6)：

G02B 5/28 , C23C 14/06 P , C23C 14/24 U , C09C 3/00 , C09C 3/06 , G02B 1/10 A

F-Term (23)：

2H048GA04 , 2H048GA09 , 2H048GA11 , 2H048GA33 , 2H048GA60 , 2H048GA61 , 2K009CC09 , 2K009DD01 , 2K009DD04 , 2K009DD09 , 2K009EE01 , 4J037CA02 , 4J037FF02 , 4K029BA34 , 4K029BA43 , 4K029BA46 , 4K029BB02 , 4K029BC07 , 4K029CA01 , 4K029CA05 , 4K029DA12 , 4K029DB14 , 4K029DC16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (21)

特開平3-196001
光素子およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-216179 Applicant：株式会社応用光電研究室, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
光学素子の成形方法及び光学素子及び光学素子成形用素材の製造方法及び精密素子の成形方法及び精密素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-315140 Applicant：キヤノン株式会社

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