Pat
J-GLOBAL ID:201203008992270790
磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドアセンブリ、磁気記録再生装置、メモリセルアレイ、及び磁気抵抗効果素子の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
藤原 康高
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011040362
Publication number (International publication number):2012178442
Application date: Feb. 25, 2011
Publication date: Sep. 13, 2012
Summary:
【課題】 本発明の実施形態によれば、劣化しにくく、MR変化率の大きい磁気抵抗効果素子、それを用いた磁気ヘッドアセンブリ、磁気記録再生装置、メモリセルアレイ、及び磁気抵抗効果素子の製造方法を提供することができる。【解決手段】 磁気抵抗効果素子は、第1の電極と、第1の磁性層と、第2の磁性層と、スペーサ層と、Zn、In、Sn、及びCdから選択される少なくとも一つの元素とFe、Co、及びNiから選択される少なくとも一つの元素とを含む酸化物層と、酸化物層に接して設けられ、Zn、In、Sn、及びCdから選択される少なくとも一つの元素を0.5at%以上80at%以下の濃度で含み、かつFe、Co、及びNiから選択される少なくとも一つの元素を含む金属層とを備える。【選択図】図1
Claim (excerpt):
第1の電極と、
第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に設けられ、磁化が一方向に固定され又は外部磁場に応じて変化する第1の磁性層と、
前記第1の磁性層と前記第2の電極との間に設けられ、磁化が外部磁場に応じて変化する第2の磁性層と、
前記第1の磁性層と前記第2の磁性層との間に設けられたスペーサ層と、
前記第1の電極と前記第1の磁性層との間、前記第1の磁性層中、前記第1の磁性層と前記スペーサ層との間、前記スペーサ層中、前記スペーサ層と前記第2の磁性層との間、前記第2の磁性層中、又は前記第2の磁性層と前記第2の電極との間の何れかに設けられ、Zn、In、Sn、及びCdから選択される少なくとも一つの元素とFe、Co、及びNiから選択される少なくとも一つの元素とを含む酸化物層と、
前記第1の電極と前記第2の電極とを結ぶ方向において前記酸化物層に接して設けられ、Zn、In、Sn、及びCdから選択される少なくとも一つの元素を5at%以上80at%以下の濃度で含み、かつFe、Co、及びNiから選択される少なくとも一つの元素を含む金属層と、
を備えることを特徴とする磁気抵抗効果素子。
IPC (5):
H01L 43/10
, H01L 43/08
, H01L 27/105
, H01L 21/824
, G11B 5/39
FI (4):
H01L43/10
, H01L43/08 Z
, H01L27/10 447
, G11B5/39
F-Term (53):
4M119AA15
, 4M119BB01
, 4M119BB03
, 4M119CC02
, 4M119DD04
, 4M119DD33
, 4M119DD37
, 4M119DD42
, 4M119DD45
, 4M119EE23
, 4M119EE27
, 4M119EE29
, 5D034BA05
, 5D034BA09
, 5D034BA21
, 5D034CA08
, 5D034DA07
, 5F092AA02
, 5F092AA06
, 5F092AB02
, 5F092AB08
, 5F092AC08
, 5F092AC12
, 5F092AD03
, 5F092AD12
, 5F092BB09
, 5F092BB10
, 5F092BB15
, 5F092BB17
, 5F092BB22
, 5F092BB23
, 5F092BB31
, 5F092BB34
, 5F092BB35
, 5F092BB36
, 5F092BB42
, 5F092BB43
, 5F092BB51
, 5F092BB53
, 5F092BB90
, 5F092BC03
, 5F092BC04
, 5F092BC07
, 5F092BC12
, 5F092BC13
, 5F092BC18
, 5F092BE06
, 5F092BE13
, 5F092BE14
, 5F092BE24
, 5F092BE25
, 5F092BE27
, 5F092CA25
Patent cited by the Patent:
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