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J-GLOBAL ID：201203021156121043

プラズマ表面処理装置およびその電極構造

Inventor：
高島 賢二

About 高島 賢二


Applicant, Patent owner：
株式会社イー・スクエア

About 株式会社イー・スクエア


Agent (2)： 佐野 章吾 ,  寒川 潔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010142166
Publication number (International publication number)：2012009184
Application date： Jun. 23, 2010
Publication date： Jan. 12, 2012
Summary：
【課題】被処理体への異常放電のおそれのない電極構造を低コストで実現することにより、高性能なプラズマ表面処理装置を安価に提供する。【解決手段】電極本体51,51間の放電空間Aに処理ガスを導入しつつ高周波電界を印加して得た放電プラズマを被処理体Wの表面に吹き付けて表面処理を行うプラズマ表面処理装置において、電極本体51の電極対向面に略板状の固体誘電体板52を配置するとともに、電極対向面と反対側に電極支持ステー9を配置し、電極本体51の周囲に液状またはゲル状の誘電体を充填し、これを固化させて電極本体51を覆う誘電体層を形成する。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
放電空間が形成されるように対向配置された一対の電極の各電極対向面が誘電体で覆われている電極構造において、 前記各電極の電極対向面にそれぞれ略板状の固体誘電体板を対面配置するとともに、前記各電極の電極対向面と反対側に各電極を支持するための電極支持ステーを配置し、この状態で前記各電極の周囲に液状またはゲル状の誘電体を充填して固化させることによって前記各電極をそれぞれの側に配設された固体誘電体板と電極支持ステーとに接着させるととともに各電極の周囲を前記固体誘電体板と固化した誘電体とによって被覆していることを特徴とする電極構造。
IPC (1)：
H05H 1/24
FI (1)：
H05H1/24
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • プラズマ処理装置の電極構造
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-041983   Applicant：積水化学工業株式会社
  • 放電用電極
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-219337   Applicant：松下電工株式会社
  • プラズマ処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-319419   Applicant：積水化学工業株式会社
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Cited by examiner (5)
  • プラズマ処理装置の電極構造
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-041983   Applicant：積水化学工業株式会社
  • 放電用電極
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-219337   Applicant：松下電工株式会社
  • プラズマ処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-319419   Applicant：積水化学工業株式会社
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