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J-GLOBAL ID：201203064310142670

微粒子の製造方法

Inventor： 畠山 義清 ,  西川 恵子
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 千葉大学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011017820
Publication number (International publication number)：2012158785
Application date： Jan. 31, 2011
Publication date： Aug. 23, 2012
Summary：

【課題】イオン液体代替の、より環境負荷が小さく安定的に金属微粒子を製造する方法を提供する。【解決手段】微粒子の製造方法は、液体高分子ポリエチレングリコールに貴金属、Si及びCdの少なくともいずれかをスパッタリングする。また、この手段において、貴金属は、金、銀、銅、白金の少なくともいずれかを含むことが好ましい。また、この手段において、高分子ポリエチレングリコールの数平均分子量は、200以上800以下の範囲にあることが好ましい。また、本手段において、スパッタリングの後、加熱処理を行うことが好ましい。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

液体高分子ポリエチレングリコールに貴金属、Si及びCdの少なくともいずれかをスパッタリングする微粒子の製造方法。

IPC (4)：

B22F 9/02 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/58 ,  C23C 14/00

FI (4)：

B22F9/02 Z ,  C23C14/14 D ,  C23C14/58 A ,  C23C14/00 A

F-Term (14)：

4K017AA03 ,  4K017BA01 ,  4K017BA02 ,  4K017CA08 ,  4K017EF05 ,  4K017EG01 ,  4K029AA11 ,  4K029AA21 ,  4K029BA05 ,  4K029BC03 ,  4K029CA05 ,  4K029DC03 ,  4K029DC34 ,  4K029GA01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 超微粒子、並びに、その製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-228521   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 反応アルミニウム又は銅のナノ粒子を製造する方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2003-554366   Applicant：アベイカ,インコーポレイティド
• 特開平3-177003
  

Cited by examiner (3)

• 超微粒子、並びに、その製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-228521   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 反応アルミニウム又は銅のナノ粒子を製造する方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2003-554366   Applicant：アベイカ,インコーポレイティド
• 特開平3-177003