変位・ひずみ分布計測光学系と計測手法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011086797
Publication number (International publication number)：2012220349
Application date： Apr. 08, 2011
Publication date： Nov. 12, 2012
Summary：

【課題】安価で小型の変位・ひずみ分布計測光学系と計測手段を提供すること。【解決手段】複数の撮像素子を使用することで、光学素子の数を減らし、2次元の変位・ひずみ分布計測を行うことができる装置を小型にすることができる。さらに、計測対象物の近傍に鏡を設置することにより、撮像素子の数を減らし、さらに小型の装置とすることができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

複数の撮像素子を用いたデジタルホログラフィを用いた光学系であって、 1つのレーザー光源を、物体に照射する物体光と、前記複数の撮像素子へ照射する参照光に分離するための手段と、計測対象物を置く場所に、特定のパターンを持つ基準面を解析領域に設置する手段、とを備える変位・ひずみ分布計測光学系。

IPC (1)：

G01B 11/16

FI (1)：

G01B11/16 G

F-Term (28)：

2F065AA09 , 2F065AA65 , 2F065BB05 , 2F065CC14 , 2F065DD02 , 2F065FF54 , 2F065FF61 , 2F065GG05 , 2F065GG22 , 2F065HH03 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ05 , 2F065JJ08 , 2F065JJ26 , 2F065LL00 , 2F065LL04 , 2F065LL13 , 2F065LL21 , 2F065LL24 , 2F065LL41 , 2F065LL46 , 2F065QQ00 , 2F065QQ03 , 2F065QQ13 , 2F065QQ17 , 2F065QQ26 , 2F065QQ27

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

変位分布計測方法、装置及びプログラム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-210972 Applicant：国立大学法人和歌山大学
3次元変位ひずみ計測方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-066766 Applicant：国立大学法人和歌山大学, 関西ティー・エル・オー株式会社
干渉計及び干渉計の校正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-114308 Applicant：株式会社ミツトヨ

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