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J-GLOBAL ID：201203099007141863

変形計測装置および変形計測方法

Inventor：
杉本 貴史

About 杉本 貴史


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (2)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010129275
Publication number (International publication number)：2011257155
Application date： Jun. 04, 2010
Publication date： Dec. 22, 2011
Summary：
【課題】 大変形を高精度かつ動的に計測可能な計測装置及び計測方法を提案する。【解決手段】 スペックル干渉を用いた変形計測において、2光束のうち一方の光束が非コリメート光となる光路と平行平面状の透明物体を利用し、キャリア縞を形成することが可能となる。具体的には、非コリメート光となる光路上に上記透明物体を設置、または光路上からの除去、もしくは光路上に設置した透明物体の屈折率、厚み、光軸に対する傾斜角を変更する。上記処理とスペックル干渉パターンの取得を繰り返し行うことにより、変形に応じた縞画像からの位相解析を行うことができ、大変形を高精度かつ動的に計測できる。【選択図】 図5
Claim (excerpt)：
被測定物に光を照射することで生じる干渉パターンの位相変化量から前記被測定物の変形量を測定する変形計測方法において、 被測定物に対して2つのレーザ光束を入射させる工程と、 入射した2つの前記レーザ光束の散乱光が干渉することによって生じた第一のスペックル干渉パターンを検出する工程と、 2つの前記レーザ光束のうち少なくとも一方のレーザ光束の光路長を変調させて生じた第二のスペックル干渉パターンを検出する工程と、 前記第一のスペックル干渉パターン及び前記第二のスペックル干渉パターンの差分に基づいて算出されたキャリア縞を有するスペックル干渉縞像を位相解析することにより取得した前記スペックル干渉縞像の位相から前記被測定物の変形量を算出する工程と、 を有する被測定物の変形量を測定する変形計測方法。
IPC (2)：
G01B 11/16 ,  G01B 11/24
FI (2)：
G01B11/16 G ,  G01B11/24 D
F-Term (15)：
2F065AA51 ,  2F065AA65 ,  2F065BB22 ,  2F065DD03 ,  2F065FF01 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065HH03 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL46 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ26
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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