濃度定量装置、濃度定量方法及びプログラム

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：西和哉 , 志賀正武 , 大浪一徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010158098
Publication number (International publication number)：2012019833
Application date： Jul. 12, 2010
Publication date： Feb. 02, 2012
Summary：

【課題】真皮層以外の層によるノイズの影響を軽減して、真皮層に含まれるグルコースの濃度を算出する。【解決手段】照射部104は、皮膚に短時間パルス光を照射し、受光部105は、皮膚によって後方散乱した光を受光し、計測光強度取得部106は、時刻tにおける受光部105の受光強度を取得する。光吸収係数算出部109は、計測光強度取得部106が取得した光強度と、光路長分布記憶部102が記憶する時刻tにおける皮膚モデルの各層の光路長と、時間分解波形記憶部103が記憶する時刻tにおける皮膚モデルの光強度とに基づいて、皮膚の真皮層の光吸収係数を算出し、濃度算出部110は、光吸収係数算出部109が算出した真皮層の光吸収係数に基づいて、真皮層のグルコース濃度を算出する。受光部105は複数用意されており、所望の層で後方散乱が生じるような照射受光間隔を有するものが用いられる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

複数の光散乱媒質の層から形成される観測対象のうち、任意の層における目的成分の濃度を定量する濃度定量装置であって、前記観測対象に短時間パルス光を照射する照射手段と、前記短時間パルス光が前記観測対象によって後方散乱した光を受光する複数の受光部を有する受光手段と、前記複数の受光部のうち、前記短時間パルス光が前記任意の層によって後方散乱した光を受光する特定の受光部を選択する選択手段と、前記照射手段が短時間パルス光を照射した時刻以降の所定の時刻において前記特定の受光手段が受光した光の強度を取得する光強度取得手段と、前記観測対象に対して照射する短時間パルス光の、前記照射手段から前記特定の受光部に至る光の伝搬経路上に配置された複数の光散乱媒質の層の各々の層における伝搬光路長分布のモデルを記憶する光路長分布記憶手段と、前記観測対象に対して照射し前記特定の受光部において受光する短時間パルス光の時間分解波形のモデルを記憶する時間分解波形記憶手段と、前記光路長分布記憶手段から、前記伝搬光路長分布のモデルの前記所定の時刻における、前記複数の光散乱媒質の層の各々の層の光路長を取得する光路長取得手段と、前記時間分解波形記憶手段から、前記短時間パルス光の時間分解波形のモデルの前記所定の時刻における光の強度を取得する光強度モデル取得手段と、前記光強度取得手段が取得した光強度と前記光路長取得手段が取得した前記複数の光散乱媒質の層の各々の層の光路長と前記光強度モデル取得手段が取得した光強度モデルとに基づいて、前記任意の層の光吸収係数を算出する光吸収係数算出手段と、前記光吸収係数算出手段が算出した光吸収係数に基づいて、前記任意の層における前記目的成分の濃度を算出する濃度算出手段と、を備えることを特徴とする濃度定量装置。

IPC (2)：

A61B 5/145 , G01N 21/35

FI (2)：

A61B5/14 322 , G01N21/35 Z

F-Term (18)：

2G059AA01 , 2G059AA05 , 2G059BB13 , 2G059EE02 , 2G059EE12 , 2G059FF04 , 2G059GG08 , 2G059HH01 , 2G059JJ17 , 2G059KK01 , 2G059MM10 , 4C038KK10 , 4C038KL05 , 4C038KL07 , 4C038KX01 , 4C038KX04 , 4C038KY01 , 4C038KY04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

散乱吸収体測定方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-001564 Applicant：浜松ホトニクス株式会社
血液成分計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-086022 Applicant：株式会社東芝
被検体の決定のための選択可能なサンプリング距離を有する光センサ
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-514551 Applicant：アボット・ラボラトリーズ

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