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J-GLOBAL ID：201302216342218919   Reference number：13A1300972

Influence of annealing on the optical properties of reactively sputtered BCN thin films

反応性スパッタリングされたBCN薄膜の光学的特性に及ぼすアニーリングの影響

Author (3)： TODI Vinit O. ,  SHANTHEYANDA Bojanna P. ,  SUNDARAM Kalpathy B.
Material： Materials Chemistry and Physics  (Mater Chem Phys)
Volume： 141  Issue： 2-3  Page： 596-601  Publication year： Sep. 16, 2013 
JST Material Number： E0934A  ISSN： 0254-0584  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *boron compound ,  *carbon compound ,  *nitride ,  dielectric thin film ,  reactive sputtering ,  sputtered deposition ,  magnetron sputtering ,  Argon ,  Nitrogen ,  Oxygen ,  *annealing (heat treatment) ,  *optical property ,  X-ray photoelectron spectrum ,  transmissivity ,  optical transmission ,  concentration dependence ,  absorption coefficient ,  optical gap ,  temperature dependence ,  chemical modification ,  light transmission ,  *boron carbon nitride
Semi thesaurus term： *annealing (heat treatment) ,  optical band gap ,  *optical property ,  radio frequency magnetron sputtering

JST classification (5)： Dielectrics in general  (BM05010F) ,  Salts  (CD01050V) ,  Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Luminescence of inorganic compounds  (BM08093J) ,  Fluorescence and phosphorescence of inorganic molecules  (BH06061R)

Terms in the title (4)： 反応性スパッタリング ,  薄膜 ,  光学的特性 ,  アニーリング