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J-GLOBAL ID：201302220451973007   Reference number：13A1656612

Fabrication of highly stable a-Si:H PIN solar cells using cluster suppression method

クラスタ抑制法を用いた高光安定アモルファスシリコンPIN太陽電池の作製

Author (8)： KOGA KAZUNORI (九大) ,  HASHIMOTO YUJI (九大) ,  KIM Yeonwon (九大) ,  TOKO SUSUMU (九大) ,  SEO Hyunwoong (九大) ,  ITAGAKI NAHO (九大) ,  SHIRATANI MASAHARU (九大) ,  UCHIDA GIICHIRO (大阪大)
Material： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
Volume： PST-13  Issue： 74-85  Page： 13-17  Publication year： Sep. 05, 2013 
JST Material Number： Z0951A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *solar cell ,  plasma CVD ,  stability ,  energy conversion efficiency ,  amorphous silicon ,  silane ,  hollow-cathode discharge ,  Schottky barrier ,  PIN junction ,  nano particle ,  *film solar cell ,  *amorphous silicon solar battery
Semi thesaurus term： light stability ,  generating efficiency

JST classification (1)： Solar cell  (NC03084O)

Reference (23)：

• International Energy Agency, Trends in Photovoltaic Applications p.26 (2012).
• J. Meier, S. Dubail, R. Fluckiger, D. Fischer, H. Keppner, and A. Shah:“Intrinsic Microcrystalline Silicon (μc-Si:H) - a Promising New Thin Film Solar Cell Materialin”, Proc. 1st World Conf. Photovoltaic Energy Conversion, p.409 (1994).
• J. Meier, S. Dubail, J. Cuperus, U. Kroll, R. Plats, P. Torres, J. A. Selvan, P. Pernet, N. Beck, N. P. Vaucher, Ch. Hof, D. Fischer, H. Keppner, and A. Shah:“Recent progress in micromorph solar cells”, J. Non-Cryst. Solids 227-230 p.1250 (1998).
• Y. Nakano, S. Goya, T. Watanabe, N. Yamashita, and Y. Yonekura: “High-deposition-rate of microcrystalline silicon solar cell by using VHF PECVD”, Thin Solid Films 506-507 p.33 (2006).
• T. Soderstrom, F. J. Haug, V. Thrrazzoni-Daudrix, and C. Balif: “Flexible micromorph tandem a-Si/μc-Si solar cells”, J. Appl. Phys. 107 Art.No. 014507 (2010).

Terms in the title (4)： クラスタ ,  アモルファスシリコン ,  太陽電池 ,  作製