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J-GLOBAL ID：201302272402368670   Reference number：13A0833935

Direct Observation of Au Nanoclusters at Au/Si Interface and Enhanced SiO₂ Growth Due to Catalytic Action by Au in Thermally Oxidized Au-Precipitated n-Type Si(001) Surfaces

熱酸化しAu沈殿したn型Si(001)表面のAuによる触媒作用によるAu/SiインタフェイスのAuナノクラスタの直接観察と強化したSiO₂成長

Author (3)： SHIMIZU Hirofumi (Nihon Univ., Fukushima, JPN) ,  KUMAMOTO Akihito (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  IMAMURA Senji (Nihon Univ., Fukushima, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 52  Issue： 4,Issue 1  Page： 041802.1-041802.7  Publication year： Apr. 25, 2013 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： thermal oxidation ,  *Gold ,  precipitation (sedimentation) ,  *silicon ,  silicon dioxide ,  nanocluster ,  behavior ,  N-type semiconductor ,  catalyst ,  growth

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (35)：

• 1) For an excellent review, see A. Cros and P. Murei: Sci. Rep. 8 (1992) 271
• 2) A. Hiraki, E. Luguijo, and J. W. Mayer. J. Appl. Phys. 43 (1972) 3643
• 3) A. K. Green and E. Bauer: J. Appl. Phys. 47 (1976) 1284
• 4) A. K Green and E. Bauer. J. Appl. Phys. 52 (1981) 5098.
• 5) A. Cros, F. Salyvan, M. Commadre, and J. Derrien Surf. Sci. 103 (1981) L109

Terms in the title (10)： 熱酸化 ,  Au ,  沈殿 ,  Si ,  触媒作用 ,  インタフェイス ,  ナノクラスタ ,  強化 ,  SiO2 ,  成長