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J-GLOBAL ID：201303009040991722

除染システム

Inventor：
釜瀬 幸広

About 釜瀬 幸広

, 
早矢仕 文男

About 早矢仕 文男


Applicant, Patent owner：
株式会社IHIシバウラ

About 株式会社IHIシバウラ


Agent (1)： 矢野 寿一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011172425
Publication number (International publication number)：2013034629
Application date： Aug. 05, 2011
Publication date： Feb. 21, 2013
Summary：
【課題】汚染物質で汚染された人体を容易に除染することができる除染システムを提供することを課題とする。【解決手段】オゾン水散布装置60からオゾン水を散布してこれを掛けることによって汚染物質(例えば、NBC(nuclear、biological、chemical)物質)で汚染された人体を除染するように構成される、除染システム1であって、オゾン水散布装置60は、散布口から散布される直前の圧力と散布口から散布された後の圧力との差が小さくなるようにオゾン水を散布可能に構成されるものである。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
オゾン水散布装置からオゾン水を散布して前記オゾン水を掛けることによって汚染物質で汚染された人体を除染するように構成される、除染システムであって、 前記オゾン水散布装置は、散布口から散布される直前の圧力と前記散布口から散布された後の圧力との差が小さくなるように前記オゾン水を散布可能に構成される、 除染システム。
IPC (3)：
A61G 10/00 ,  A61L 2/22 ,  G21F 9/28
FI (3)：
A61G10/00 Z ,  A61L2/22 ,  G21F9/28 521A
F-Term (12)：
4C058AA28 ,  4C058BB07 ,  4C058CC06 ,  4C058DD06 ,  4C058DD07 ,  4C058EE26 ,  4C058JJ07 ,  4C058JJ24 ,  4C341KK01 ,  4C341KK05 ,  4C341KL04 ,  4C341KL08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (14)
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