Pat
J-GLOBAL ID：201303009401312701

位置出し機構

Inventor：
北村 英男

About 北村 英男

, 
田中 隆次

About 田中 隆次


Applicant, Patent owner：
独立行政法人理化学研究所

About 独立行政法人理化学研究所


Agent (1)： 野河 信太郎
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2008018003
Publication number (International publication number)：2009181741
Patent number：5251145
Application date： Jan. 29, 2008
Publication date： Aug. 13, 2009
Claim (excerpt)：
【請求項1】第1部材と、第2部材と、回動操作部とを備え、 第1部材は、第1ベース部と、第1ベース部から突出した第1突出部と、第1突出部に設けられた第1雄ネジ部とを有し、 第2部材は、第2ベース部と、第2ベース部から突出した第2突出部と、第2突出部に設けられた第2雄ネジ部とを有し、 前記回動操作部は、第1雄ネジ部及び第2雄ネジ部のそれぞれに噛み合う第1雌ネジ部及び第2雌ネジ部を有し、 第1雄ネジ部と第2雄ネジ部は、ネジの向きが同じでネジピッチが互いに異なり、 第1突出部、前記回動操作部及び第2突出部は、同軸に配置され、 第1部材と第2部材とが相対的に直線移動することを補助するガイド部をさらに備え、 前記ガイド部は、第2突出部に設けられた軸部と、第1突出部に設けられ且つ前記軸部を収容する軸収容部とで構成され、 前記軸部の側面は、前記軸収容部の内側面の対向する2つの部分の両方に接触し、 第1部材は、第1ベース部から前記軸収容部内に突出する回動阻止用ピンをさらに備え、前記軸部は、前記回動阻止用ピンを収容するピン収容部を有することを特徴とする位置出し機構。
IPC (1)：
H05H 13/04 ( 200 6.01)
FI (3)：
H05H 13/04 E ,  H05H 13/04 F ,  H05H 13/04 Q
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
Show all
Cited by examiner (12)
  • 回転塗布装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-354331   Applicant：東京応化工業株式会社, タツモ株式会社
  • 圧電素子高さ調整装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-041612   Applicant：日本電気株式会社
  • 多極磁場測定装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-003621   Applicant：三菱電機株式会社
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM