アイソトープ生成システム用の自己シールドターゲット

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：荒川聡志 , 小倉博 , 黒川俊久 , 田中拓人
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2013506159
Publication number (International publication number)：2013527922
Application date： Mar. 23, 2011
Publication date： Jul. 04, 2013
Summary：

【課題】アイソトープ生成システム用の自己シールドターゲットを提供すること。【解決手段】アイソトープ生成システム用の自己シールドターゲットが提供される。ターゲットは、ターゲット材料を包むように構成され且つ荷電粒子ビームの通路を有する本体と、本体内にある構成要素とを含み、荷電粒子ビームが構成要素内に放射能を誘導する。加えて、本体の少なくとも一部が、構成要素をシールドするためにアルミニウムの密度値よりも大きな密度値を有する材料から形成される。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

アイソトープ生成システムのためのターゲットであって、ターゲット材料を包むように構成され且つ荷電粒子ビームの通路を有する本体と、前記本体内にあり且つ前記荷電粒子ビームが放射能を誘導する構成要素と、前記構成要素をシールドするためにアルミニウムの密度値よりも大きな密度値を有する材料から形成された前記本体の少なくとも一部と、を備える、ターゲット。

IPC (4)：

G21G 1/10 , G21G 4/08 , G21F 1/08 , H05H 6/00

FI (4)：

G21G1/10 , G21G4/08 G , G21F1/08 , H05H6/00

F-Term (5)：

2G085AA03 , 2G085AA11 , 2G085AA13 , 2G085BA17 , 2G085EA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

粒子線加速器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-095534 Applicant：国立循環器病センター総長
放射性同位元素製造装置、及びその据付方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-233868 Applicant：株式会社日立製作所
ターゲット装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-088013 Applicant：住友重機械工業株式会社

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