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J-GLOBAL ID:201303039681286081

頭蓋内電極構造体およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人原謙三国際特許事務所
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2007216461
Publication number (International publication number):2009045368
Patent number:5126710
Application date: Aug. 22, 2007
Publication date: Mar. 05, 2009
Claim (excerpt):
【請求項1】 頭蓋内に留置するための電極構造体であって、 生体適合性物質からなり、かつ、脳回もしくは脳溝の表面、または半球間裂もしくは葉間の表面の3次元形状を有するシート状の構造体に、電極が設けられており、 上記構造体は、第1層および第2層を少なくとも備え、第1層および第2層を最外層とする多層構造からなり、 上記構造体の第1層および第2層のうち、少なくとも一方には、少なくとも1つの孔が形成されており、 上記電極は、上記孔の領域に配置されており、 上記電極は、上記構造体の両面に配置されていることを特徴とする電極構造体。
IPC (4):
A61N 1/05 ( 200 6.01) ,  A61B 5/0408 ( 200 6.01) ,  A61B 5/0478 ( 200 6.01) ,  A61B 5/0492 ( 200 6.01)
FI (2):
A61N 1/05 ,  A61B 5/04 300 J
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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