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J-GLOBAL ID:201303039681286081
頭蓋内電極構造体およびその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人原謙三国際特許事務所
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2007216461
Publication number (International publication number):2009045368
Patent number:5126710
Application date: Aug. 22, 2007
Publication date: Mar. 05, 2009
Claim (excerpt):
【請求項1】 頭蓋内に留置するための電極構造体であって、
生体適合性物質からなり、かつ、脳回もしくは脳溝の表面、または半球間裂もしくは葉間の表面の3次元形状を有するシート状の構造体に、電極が設けられており、
上記構造体は、第1層および第2層を少なくとも備え、第1層および第2層を最外層とする多層構造からなり、
上記構造体の第1層および第2層のうち、少なくとも一方には、少なくとも1つの孔が形成されており、
上記電極は、上記孔の領域に配置されており、
上記電極は、上記構造体の両面に配置されていることを特徴とする電極構造体。
IPC (4):
A61N 1/05 ( 200 6.01)
, A61B 5/0408 ( 200 6.01)
, A61B 5/0478 ( 200 6.01)
, A61B 5/0492 ( 200 6.01)
FI (2):
A61N 1/05
, A61B 5/04 300 J
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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患者に電気刺激を印加するための装置及びシステム
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2006-517751
Applicant:ノーススターニューロサイエンスインコーポレイテッド
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医療用仮リード
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平7-519703
Applicant:メドトロニック・インコーポレーテッド
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脳とデータ処理装置間のデータ伝送プローブ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2008-555745
Applicant:アルバート-ルートウィヒ-ユニベルシタートフライブルグ
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