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J-GLOBAL ID:201303049464148792

廃シリコンからのハロシランの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 廣田 雅紀 ,  小澤 誠次 ,  東海 裕作 ,  大▲高▼ とし子 ,  ▲高▼津 一也 ,  堀内 真
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011250812
Publication number (International publication number):2013103872
Application date: Nov. 16, 2011
Publication date: May. 30, 2013
Summary:
【課題】シリコンウェハ製造用シリコンインゴットを砥粒として炭化ケイ素又はダイヤモンドを用いた砥粒方式により切削する際に発生する砥粒含有廃シリコンの処理物から高い収率でハロシランを製造する方法を提供すること。【解決手段】炭化ケイ素又はダイヤモンドからなる砥粒を含有する廃シリコン処理物を用いる方法であって、砥粒含有廃シリコンスラリーから砥粒を主成分とする固形分を分離することなくハロゲン化水素と反応させるハロシランの製造方法である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
シリコンに対して35質量%以上の炭化ケイ素又はシリコンに対して0.5質量%以上のダイヤモンドの存在下で、シリコン及びハロゲン化水素を反応させることを特徴とするハロシランの製造方法。
IPC (1):
C01B 33/107
FI (1):
C01B33/107 Z
F-Term (11):
4G072AA15 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072HH33 ,  4G072HH40 ,  4G072JJ02 ,  4G072JJ13 ,  4G072LL02 ,  4G072MM01 ,  4G072UU01 ,  4G072UU02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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