トンネル坑内の形状測定システムおよび形状測定方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：間山進也
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2001268052
Publication number (International publication number)：2003075150
Patent number：4841081
Application date： Sep. 04, 2001
Publication date： Mar. 12, 2003
Claim (excerpt)：

【請求項1】トンネル坑内の周方向と、前記トンネル坑内の坑道とに配設される複数のターゲット部材と、前記ターゲット部材に設けられるターゲットを含むように前記トンネル坑内を角度を変えて複数の画像を撮影するための撮影手段と、前記撮影手段により撮影された前記ターゲットの像を含む前記複数の画像を用いてトンネル形状を測定するための形状測定手段とを含み、前記坑道に配設される複数のターゲット部材は、所定間隔となるように連結部材により互いに連結され、前記周方向に配設される複数のターゲット部材により形成されるトンネル断面に対しトンネル軸方向に向けて該トンネル断面の前方側または後方側となるように配置され、前記形状測定手段は、前記連結部材により連結された前記複数のターゲット部材に設けられる前記ターゲット間の間隔をスケールとして用いて前記トンネル坑内の形状を測定することを特徴とする、トンネル坑内の形状測定システム。

IPC (4)：

G01C 7/06 ( 200 6.01) , E21D 9/00 ( 200 6.01) , G01C 11/06 ( 200 6.01) , G01C 15/06 ( 200 6.01)

FI (4)：

G01C 7/06 , E21D 9/00 Z , G01C 11/06 , G01C 15/06 T

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

トンネル坑内の写真測量方法及びトンネル坑内の写真測量システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-305378 Applicant：西松建設株式会社
掘削断面の内空変位の計測方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-135566 Applicant：株式会社大林組
トンネル内空変位の自動測定システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-346087 Applicant：株式会社熊谷組, 株式会社アドテクニカルセンター

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