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J-GLOBAL ID:201303055095828830
パルス光発生装置および方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
山川 政樹
, 山川 茂樹
, 小池 勇三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011266528
Publication number (International publication number):2013120202
Application date: Dec. 06, 2011
Publication date: Jun. 17, 2013
Summary:
【課題】任意の中心光周波数に対し、パルス幅が1ピコ秒以下で、繰り返し周波数が40GHzを超える短パルス光が発生できるようにする。【解決手段】所望とする中心光周波数の連続したレーザー光(CW光)を発生する光源101と、光源101からのCW光を設定された周波数frepで位相変調して光パルス列を出力する位相変調部102とを備える。また、非線形光学媒質から構成されて位相変調部102で位相変調されて出力された光パルス列の各光パルスのパルス幅(時間幅)を圧縮する分散付与部103と、非線形光学媒質から構成されて分散付与部103で圧縮された光パルス列の光強度を増幅する光増幅部104と、光増幅部104で増幅された光パルス列より線スペクトル(光コム)を光周波数軸上で間引いて光波形を整形する波形整形部105とを備える。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
所望とする中心光周波数の連続したレーザー光を発生する光源と、
前記光源からのレーザー光を設定された周波数で位相変調して光パルス列を出力する位相変調手段と、
非線形光学媒質から構成されて前記位相変調手段より出力された光パルス列の各光パルスのパルス幅を圧縮する分散付与手段と、
非線形光学媒質から構成されて前記分散付与手段で圧縮された前記光パルス列の光強度を増幅する光増幅手段と、
前記位相変調手段より出力された前記光パルス列より線スペクトルを光周波数軸上で間引いて光波形を整形する波形整形手段と
を少なくとも備えることを特徴とするパルス光発生装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (9):
2K002AA04
, 2K002AB40
, 2K002BA01
, 2K002DA10
, 2K002EA30
, 2K002EB15
, 2K002GA10
, 2K002HA05
, 2K002HA13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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光周波数コム安定化光源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-291906
Applicant:日本電信電話株式会社
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パルスレーザー発生装置およびパルスレーザー発生方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-111610
Applicant:独立行政法人理化学研究所
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高繰り返し光パルス発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-131874
Applicant:日本電信電話株式会社
-
光パルス圧縮器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-017843
Applicant:キヤノン株式会社
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Article cited by the Patent:
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