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J-GLOBAL ID：201303063539164090

高コントラスト位置合わせマークを有するテンプレート

Inventor：
セリニディス,コスタ

About セリニディス,コスタ


Applicant, Patent owner：
モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド

About モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド


Agent (2)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2012552119
Publication number (International publication number)：2013519236
Application date： Feb. 04, 2011
Publication date： May. 23, 2013
Summary：
高コントラスト材料の位置合わせマークを有するテンプレートを形成するためのシステム及び方法を説明する。高コントラスト材料は、位置合わせマークの凹部内に位置することができる。【選択図】 図3I
Claim (excerpt)：
インプリントナノリソグラフィ基板のパターニング方法であって、 (a)基板の位置合わせ領域及び特徴部領域上に複数の凸部及び凹部を形成するステップと、 (b)前記位置合わせ領域上に高コントラスト材料を堆積させるステップと、 (c)前記位置合わせ領域及び特徴部領域上に層を形成するステップと、 (d)前記位置合わせ領域から前記形成層の一部を除去して、前記形成層の残存部分を前記位置合わせ領域の前記凹部内にのみ残存させるステップと、 (e)前記位置合わせ領域から前記高コントラスト材料の一部を除去して、前記高コントラスト材料の残存部分を前記位置合わせ領域の前記凹部内にのみ残存させるステップと、 (g)前記位置合わせ領域の前記凹部内の前記形成層の前記残存部分を除去して、前記位置合わせ領域の前記凹部内に残存する前記高コントラスト材料を露出させるステップと、 を含むことを特徴とする方法。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02 ,  B29C 33/38
FI (4)：
H01L21/30 502D ,  H01L21/30 502M ,  B29C59/02 Z ,  B29C33/38
F-Term (29)：
4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202AJ06 ,  4F202AK03 ,  4F202AR12 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD05 ,  4F202CD24 ,  4F202CK12 ,  4F202CK90 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AJ06 ,  4F209AK03 ,  4F209AR12 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31 ,  5F146FC02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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