マイクロ波プラズマ処理装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：牛木護 , 清水栄松 , 吉田正義
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2006180485
Publication number (International publication number)：2008010683
Patent number：5067749
Application date： Jun. 29, 2006
Publication date： Jan. 17, 2008
Claim (excerpt)：

【請求項1】基板を収納する処理室を有するともに、一部にマイクロ波が透過可能な誘電体窓が気密に設けられた真空容器と、導波管を伝搬してくるマイクロ波を前記真空容器内に導入するアンテナと、前記処理室内の前記誘電体窓に沿って設置され、前記真空容器とは電気的に絶縁されると共に、前記マイクロ波が透過可能な部位を有する導体板とを具備するマイクロ波プラズマ処理装置であって、前記処理室内に設置され、前記真空容器とは電気的に絶縁されている内部容器と、前記内部容器とは電気的に絶縁され、前記内部容器内に設置されている複数の導体とを有し、前記導体板と前記内部容器と前記複数の導体のそれぞれに電気リード線が設けられ、一方が前記電気リード線に接続されているスイッチの他方は前記真空容器外部のアース回路とつながっていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ( 200 6.01) , C23C 16/511 ( 200 6.01)

FI (2)：

H01L 21/205 , C23C 16/511

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

マイクロ波プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-279674 Applicant：桂井誠

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

Return to Previous Page