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J-GLOBAL ID：201303064754948392

適応光学系を有する顕微鏡検査法

Inventor：
エリク ベトジグ

About エリク ベトジグ

, 
ナ ジ

About ナ ジ


Applicant, Patent owner：
ホワルド フグヘス メドイクアル インストイトウテ

About ホワルド フグヘス メドイクアル インストイトウテ


Agent (1)： 石川 徹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2012519780
Publication number (International publication number)：2012533069
Application date： Jul. 09, 2010
Publication date： Dec. 20, 2012
Summary：
光学系の後瞳がセグメント化され、該セグメントが波面変調デバイスによって個々に制御され、光学系内の励起または放射ビームの個々のビームレットの方向および位相を制御して、サンプルおよびシステムによって誘導される収差に対する適応光学系補正を提供する顕微鏡検査技術。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
サンプルの画像を形成する方法であって、 前記サンプル内の焦点に、ビームの断面が個々のビームレットを含む励起光ビームを収束させるステップと、 前記サンプル内の複数の異なる位置で前記焦点を走査するステップと、 前記焦点が前記複数の異なる位置にあるときに前記個々のビームレットの角度を個々に制御するステップと、 前記焦点が前記複数の異なる位置にあるときに前記個々のビームレットの相対位相を個々に制御するステップと、 前記焦点が前記複数の異なる位置にあるときに前記焦点から放射された放射光を検出するステップと、 前記焦点の複数の異なる位置から前記検出された放射光に基づいて前記サンプルの画像を作成するステップと、 を備える、方法。
IPC (4)：
G01N 21/64 ,  G01N 21/17 ,  G02B 21/06 ,  G02B 21/36
FI (4)：
G01N21/64 F ,  G01N21/17 A ,  G02B21/06 ,  G02B21/36
F-Term (32)：
2G043AA03 ,  2G043BA16 ,  2G043CA07 ,  2G043EA01 ,  2G043FA01 ,  2G043GA02 ,  2G043GB01 ,  2G043HA01 ,  2G043HA02 ,  2G043HA06 ,  2G043HA15 ,  2G043JA03 ,  2G043LA03 ,  2G059AA05 ,  2G059BB10 ,  2G059BB14 ,  2G059EE07 ,  2G059FF01 ,  2G059JJ03 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ18 ,  2G059JJ30 ,  2G059KK04 ,  2G059NN06 ,  2H052AA08 ,  2H052AB06 ,  2H052AC15 ,  2H052AC18 ,  2H052AC27 ,  2H052AF14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • 顕微鏡におけるアダプティブ光学装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-214675   Applicant：カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
  • 適応光学装置を有する顕微鏡、特にレーザ走査型顕微鏡
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-147210   Applicant：カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
  • 共焦点光学系
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-230369   Applicant：株式会社大阪光科学技術研究所
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