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J-GLOBAL ID:201303066854447458
酸化グラフェンの還元方法およびその方法を利用した電極材料の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
大川 浩一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012013924
Publication number (International publication number):2013151398
Application date: Jan. 26, 2012
Publication date: Aug. 08, 2013
Summary:
【課題】酸化グラフェンを効率的に還元することができる、酸化グラフェンの還元方法およびその方法を利用した電極材料の製造方法を提供する。【解決手段】電解液中の酸化グラフェンに電位-0.4〜0.7Vの範囲で交流電圧を印加しながら光を照射して、酸化グラフェンを還元することにより、酸化グラフェン還元物からなる電極材料を製造する。セリウムイオンなどの金属イオンを含む電解液を使用すると、酸化グラフェン還元物と、その表面または層間に担持された金属の酸化物または水酸化物とからなり、電気容量が200F/g以上の電極材料を製造することができる。【選択図】図4
Claim (excerpt):
酸化グラフェンに交流電圧を印加しながら光を照射して、酸化グラフェンを還元することを特徴とする、酸化グラフェンの還元方法。
IPC (3):
C01B 31/02
, H01M 4/96
, H01G 11/22
FI (3):
C01B31/02 101Z
, H01M4/96 B
, H01G9/00 301A
F-Term (30):
4G146AA01
, 4G146AA15
, 4G146AB07
, 4G146AC19B
, 4G146AD23
, 4G146AD28
, 4G146CB13
, 4G146CB16
, 4G146CB32
, 5E078AA01
, 5E078AB02
, 5E078AB04
, 5E078BA18
, 5E078BA27
, 5H018AA01
, 5H018AA10
, 5H018AS03
, 5H018BB17
, 5H018EE06
, 5H018EE11
, 5H018EE12
, 5H018HH06
, 5H032AA02
, 5H032AS12
, 5H032BB07
, 5H032BB10
, 5H032CC11
, 5H032EE01
, 5H032EE02
, 5H032HH08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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炭素からなる骨格を持つ薄膜状粒子を用いた電気メッキの方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-032884
Applicant:三菱瓦斯化学株式会社
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グラファイトリボンおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-070392
Applicant:大阪瓦斯株式会社
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グラフェン酸化物の脱酸素
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-091959
Applicant:ノースロップグラマンシステムズコーポレーション
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Article cited by the Patent:
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