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J-GLOBAL ID:201103050450945170
転写リソグラフィ・プロセスのための自動液体ディスペンス方法およびシステム
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (2):
山川 政樹
, 山川 茂樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011051870
Publication number (International publication number):2011176321
Application date: Mar. 09, 2011
Publication date: Sep. 08, 2011
Summary:
【課題】本発明は、転写リソグラフィ・プロセスに適用可能な液体ディスペンス・システム及びディスペンス方法を提案できるようにする。【解決手段】平板状の物質または転写リソグラフィ・プロセス用の半導体ウエハを含む基板の表面に液体をディスペンスする自動液体ディスペンス方法とシステムが開示されている。本ディスペンス方法は液体ディスペンサ・チップと基板との間の相対的な動きを生成する基板ステージと液体ディスペンサを使用する。さらに、パターン化されていない平坦なテンプレートを用いて基板表面を平坦にする方法と装置も開示されている。【選択図】図3
Claim (excerpt):
基板の表面を平らにする方法であって、
基板の少なくとも一部に活性化光硬化液を塗布するステップと、
塗布された活性化光硬化液がギャップを実質的に充填するように、テンプレートが基板に対して間隔を隔てて配置され、テンプレートと基板の間にギャップが生成されるように、実質的にパターン化されていない平らなテンプレートおよび基板を互いに間隔を隔てて位置決めするステップと、
テンプレートと基板表面が実質的に平行になるようにテンプレートを調整するステップと、
活性化光の照射によって活性化光硬化液が実質的に硬化させるように、活性化光硬化液に活性化光を照射するステップと、
テンプレートと硬化した活性化光硬化液を分離するステップと、
から構成されることを特徴とする方法。
IPC (1):
FI (2):
H01L21/30 502D
, H01L21/30 578
F-Term (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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平坦化膜の形成方法およびその形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-026105
Applicant:ソニー株式会社
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特開昭52-026171
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特開平4-023244
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樹脂の回転塗布方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-130136
Applicant:富士通株式会社
-
電子部品用材料およびその使用方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-106783
Applicant:ジェイエスアール株式会社
-
チップのボンディング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-045625
Applicant:松下電器産業株式会社
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特開平3-283435
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光デイスクの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-230764
Applicant:ソニー株式会社
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特開昭58-082726
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特開昭64-014752
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特開平4-252040
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光学記録媒体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-249273
Applicant:ソニー株式会社
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インプリント・リソグラフィのための高精度方向付けアライメントデバイスおよびギャップ制御デバイス
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-535125
Applicant:ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
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段付き鋳張り捺印式リソグラフィー
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-604271
Applicant:ボード・オヴ・リージェンツ,ザ・ユニヴァーシティ・オヴ・テキサス・システム
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Article cited by the Patent:
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