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J-GLOBAL ID：200903079736025532

ポジ・トーンの二重層インプリント・リソグラフィー法とその組成物

Inventor： スリニーヴァッサン,シトルガタ・ヴイ ,  シュ,フランク・ワイ ,  ミラー,マイケル・エヌ ,  ワッツ,マイケル・ピイ・シイ
Applicant, Patent owner： モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
Agent (2)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006507506
Publication number (International publication number)：2006521702
Application date： Mar. 24, 2004
Publication date： Sep. 21, 2006
Summary：

本発明は、突起部と凹所とを有するパターン化された層を基板の上に形成することによって多層構造物を作成することを特徴とする、基板をパターニングする方法と組成物とを提供する。パターン化された層に形成されているのは順応層であり、多層構造物は基板から見て外方に向いているクラウン表面を有する。多層構造物の一部を取り除いて、突起部と重ね合わされている基板の領域を露出させる一方で、凹所と重ね合わされているクラウン表面の領域に固いマスクを形成する。

Claim (excerpt)：

ある形を有する、パターン化された層を基板上に形成すること、および 前記形の逆を前記基板へ転写することを含む、基板をパターニングする方法。

IPC (1)：

H01L 21/027

FI (1)：

H01L21/30 502D

F-Term (1)：

5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

• レジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-027765   Applicant：株式会社東芝
• パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-294981   Applicant：株式会社東芝
• モールド、モールドの製造方法及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-065062   Applicant：松下電器産業株式会社
• ディスク状記録媒体の製造方法及び金型装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-049273   Applicant：ソニー株式会社
• マイクロレンズアレイの製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-013784   Applicant：ヤマハ株式会社
• モールド、モールドの製造方法、および、パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-266989   Applicant：松下電器産業株式会社
• パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-385458   Applicant：松下電器産業株式会社
• 特開平4-366958
  
• 感光性樹脂組成物およびその用途
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-013360   Applicant：日本合成化学工業株式会社
• 回路デバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-349147   Applicant：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー