自己組織化可能な重合体及びリソグラフィにおける使用方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：稲葉良幸 , 大貫敏史
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2013512801
Publication number (International publication number)：2013534542
Application date： Apr. 20, 2011
Publication date： Sep. 05, 2013
Summary：

第1及び第2の分子構造を有する自己組織化可能な重合体であって、第1の分子構造は第2の分子構造よりも自己組織化可能な重合体のFlory-Hugginsパラメータが高く、刺激を加えることによって第1の分子構造から第2の分子構造に、第2の分子構造から第1の分子構造に、又はその両方に構成可能である自己組織化可能な重合体が開示される。重合体は、第2の分子構造にある重合体を秩序化し、アニールすることによって且つ第1の分子構造にある重合体を硬化させることによって基板上の秩序化され、周期的にパターニングされた重合体層を形成する方法で使用される。第2の分子構造はその秩序/無秩序転移温度近くでより良好な秩序化動力学をもたらし、欠陥のアニーリングを可能にする一方、秩序/無秩序転移温度がより高い第1の分子構造は、硬化で形成されるパターンのラインエッジ/ライン幅ラフネスを低下させる。【選択図】図3D

Claim (excerpt)：

第1及び第2の分子構造を有する自己組織化可能な重合体であって、前記第1の分子構造は第2の分子構造よりも前記自己組織化可能な重合体のFlory-Hugginsパラメータが高く、前記自己組織化可能な重合体は刺激を加えることによって前記第1の分子構造から前記第2の分子構造に、前記第2の分子構造から前記第1の分子構造に、又はその両方に構成可能である、自己組織化可能な重合体。

IPC (5)：

C08F 293/00 , H01L 21/027 , B82Y 30/00 , B82Y 40/00 , G03F 7/40

FI (6)：

C08F293/00 , H01L21/30 502D , H01L21/30 570 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G03F7/40 521

F-Term (17)：

2H096AA25 , 2H096JA04 , 2H096KA19 , 4J026HA06 , 4J026HA19 , 4J026HB11 , 4J026HB15 , 4J026HB16 , 4J026HB19 , 4J026HD06 , 4J026HD11 , 4J026HD15 , 4J026HD16 , 4J026HD19 , 4J026HE01 , 5F146AA28 , 5F146LA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

構造体とそれを用いた光記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-066124 Applicant：株式会社リコー
パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-075630 Applicant：大日本印刷株式会社
ブロック・コポリマーの改良型自己組織化パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-008935 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

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