大規模グラフェンシート、それを組み込んだ物、組成物、方法および装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：矢口太郎
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2013524223
Publication number (International publication number)：2013535407
Application date： Aug. 11, 2011
Publication date： Sep. 12, 2013
Summary：

【解決手段】本発明が提供するのは大規模で均一的なグラフェン層を常圧で化学蒸着(Chemical Vapor Deposition(CVD))を使用して平坦化された基板上に成長させるための方法である。上記方法にしたがって生成されたグラフェンは容積95%を超える単層にすることもできる。本発明の工程により調製された電界効果トランジスタは室温正孔移動度を有し、商業的に入手可能な銅箔基板上で作製されたサンプルを測定したときの室温正孔移動度の2〜5倍大規模である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

グラフェン材を作製する方法であって、平坦化された金属基板上にグラフェンシートを成長させる工程を有する方法。

IPC (5)：

C01B 31/02 , H01L 51/05 , H01L 51/30 , H01L 51/40 , H01L 29/786

FI (5)：

C01B31/02 101Z , H01L29/28 100A , H01L29/28 250E , H01L29/28 310E , H01L29/78 618B

F-Term (29)：

4G146AA01 , 4G146AB07 , 4G146AC01A , 4G146AC01B , 4G146AC16A , 4G146AC16B , 4G146AC19A , 4G146AC19B , 4G146AD28 , 4G146AD30 , 4G146BA12 , 4G146BA48 , 4G146BB23 , 4G146BC07 , 4G146BC09 , 4G146BC23 , 4G146BC25 , 4G146BC26 , 4G146BC32A , 4G146BC33A , 4G146BC33B , 4G146BC34A , 4G146BC34B , 4G146CA02 , 5F110DD05 , 5F110EE01 , 5F110GG01 , 5F110GG44 , 5F110HK01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

グラフェン被覆部材とその製造方法。
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-261875 Applicant：独立行政法人物質・材料研究機構
単結晶グラフェンシートおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-318418 Applicant：三星電子株式会社
グラフェンのロールツーロール転写方法、それによるグラフェンロール、及びグラフェンのロールツーロール転写装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2012-534122 Applicant：スンキュンクワンユニヴァーシティーファウンデーションフォーコーポレイトコラボレイション

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

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