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J-GLOBAL ID：201402205267981437   Reference number：14A0957292

Electric and Magneto-Electric Properties of Cr₂O₃ Thin Films

Cr₂O₃薄膜の電気/磁気電気特性

Author (3)： ICHIKAWA Koji (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Nagoya Inst. of Technol.) ,  YOKOTA Takeshi (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Nagoya Inst. of Technol.) ,  GOMI Manabu (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Nagoya Inst. of Technol.)
Material： e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web)  (表面科学とナノテクノロジー)
Volume： 12  Page： 373-376 (J-STAGE)  Publication year： 2014 
JST Material Number： U0016A  ISSN： 1348-0391  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： RHEED ,  sputtered deposition ,  magnetron sputtering ,  substrate (plate) ,  Platinum ,  epitaxy ,  *chromium oxide ,  leakage current ,  magnetic hysteresis ,  magnetization ,  interface (surface) ,  compressive stress ,  interaction ,  *magnetoelectric effect ,  *electrical characteristic ,  *thin film ,  metal substrate ,  solid-solid interface ,  Interfacial Interaction
Semi thesaurus term： reflection high energy electron diffraction ,  RF magnetron sputtering

JST classification (3)： Bases,metal oxides  (CD01030Z) ,  Oxide thin films  (BK14050P) ,  Magnetic properties of oxides  (BM06050E)

Terms in the title (4)： Cr2O3 ,  薄膜 ,  磁気 ,  電気特性