Art

J-GLOBAL ID：201402251491127761   Reference number：14A0804511

Optimization of the preparation condition of LiMn₂O₄ film

LiMn₂O₄薄膜の生成条件の最適化

Author (3)： HAYAKAWA YOSHIHIRO (静岡大) ,  ISAI MASAAKI (静岡大) ,  TOMITA YASUMASA (静岡大 工)
Material： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
Volume： 114  Issue： 58(SDM2014 16-42)  Page： 27-32  Publication year： May. 21, 2014 
JST Material Number： S0532B  ISSN： 0913-5685  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *sputtered deposition ,  *magnetron sputtering ,  thin film ,  *thin film growth ,  *lithium secondary battery ,  X-Ray Diffraction ,  electrical characteristic ,  battery capacity ,  cathode ,  optimization ,  charge and discharge character ,  discharge capacitance ,  modification
Semi thesaurus term： *RF magnetron sputtering ,  LiMn₂O₄薄膜 ,  *Li二次電池 ,  cathode

JST classification (3)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Secondary batteries  (YB04030K)

Reference (33)：

• Desilvestro and O. Haas, J.Electrochem.Soc.137, 5C (1990).
• R. Koksbang, J. Barker, H. Shi, and M. Y. Saidi, Solid State Ionics 84, 1 (1996).
• M. M. Thackeray, A de Kock, M. H. Rossouw, D. Liles, R. Bittihn, and D. Hoge, J.Electrochem.Soc.139, 363 (1992).
• R. J. Gummow, A de Kock, and M. M. Thackeray, Solid State Ionics, 69, 59 (1994).
• J. C. Hunter, J. Solid State. Chem.39, 142 (1981).

Terms in the title (2)： 薄膜 ,  最適化