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J-GLOBAL ID：201402273136956246   Reference number：14A0289882

Titanium dioxide fine structures by RF magnetron sputter method deposited on an electron-beam resist mask

電子ビームレジストマスク上にRFマグネトロンスパッタリング法で堆積させた二酸化チタン微細構造

Author (3)： HASHIBA Hideomi (Nihon Univ., Tokyo, JPN) ,  MIYAZAKI Yuta (Nihon Univ., Tokyo, JPN) ,  MATSUSHITA Sachiko (Tokyo Inst. Technol., Tokyo)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 8816  Page： 88161F.1-88161F.6  Publication year： 2013 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： magnetron sputtering ,  *titanium oxide ,  *thin film growth ,  micro structure ,  *crystal ,  photonic band gap ,  crystal growth ,  annealing(heat treatment) ,  electron microscopy ,  crystallization ,  *photonic crystal
Semi thesaurus term： X線回折パターン ,  *titanium dioxide

JST classification (1)： Crystal growth of oxides  (BK13050I)

Terms in the title (6)： 電子ビームレジスト ,  マスク ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  二酸化チタン ,  微細構造