Pat
J-GLOBAL ID:201403001953373159

インプラント用材料及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (12): 特許業務法人前田特許事務所 ,  前田 弘 ,  竹内 宏 ,  嶋田 高久 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  藤田 篤史 ,  二宮 克也 ,  原田 智雄 ,  井関 勝守 ,  関 啓 ,  杉浦 靖也
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2007316095
Publication number (International publication number):2009137888
Patent number:5327934
Application date: Dec. 06, 2007
Publication date: Jun. 25, 2009
Claim (excerpt):
【請求項1】 基材と、 前記基材の表面に形成され、シリコンを含む炭素質薄膜とを備え、 前記炭素質薄膜は、炭素同士が結合したC-C成分及び炭素とシリコンとが結合したSiC成分を含み、 前記SiC成分の比率は、0.06以上、0.5以下であり、 前記炭素質薄膜に含まれるSiO2成分のシリコンと炭素との和に対する比率は、0.05以下であることを特徴とするインプラント用材料。
IPC (2):
A61K 6/093 ( 200 6.01) ,  A61L 27/00 ( 200 6.01)
FI (2):
A61K 6/093 ,  A61L 27/00 H
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
Show all
Cited by examiner (9)
Show all
Article cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page