Pat
J-GLOBAL ID:200903025997378308
炭素質薄膜及びその製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (11):
前田 弘
, 竹内 宏
, 嶋田 高久
, 竹内 祐二
, 今江 克実
, 藤田 篤史
, 二宮 克也
, 原田 智雄
, 井関 勝守
, 関 啓
, 杉浦 靖也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007294273
Publication number (International publication number):2009120885
Application date: Nov. 13, 2007
Publication date: Jun. 04, 2009
Summary:
【課題】大きな変形を伴う基材の表面に形成した場合においても、剥離及びクラックが発生しにくく且つ耐蝕性が高い炭素質薄膜を実現できるようにする。【解決手段】炭素質薄膜は、基材の表面に形成され、炭素同士が結合したC-C成分及び炭素とシリコンとが結合したSiC成分を含む膜本体を備えている。膜本体の表面における酸化シリコン成分の比率は、0.05以下である。【選択図】図5
Claim (excerpt):
基材の表面に形成され、炭素同士が結合したC-C成分及び炭素とシリコンとが結合したSiC成分を含む膜本体を備え、
前記膜本体の表面における酸素とシリコンとが結合したSiO2成分の比率は、0.05以下であることを特徴とする炭素質薄膜。
IPC (8):
C23C 16/27
, C01B 31/02
, A61M 25/01
, A61M 25/00
, A61L 29/00
, A61L 31/00
, A61L 27/00
, C23C 14/06
FI (8):
C23C16/27
, C01B31/02 101Z
, A61M25/00 450B
, A61M25/00 304
, A61L29/00 Z
, A61L31/00 Z
, A61L27/00 P
, C23C14/06 F
F-Term (66):
4C081AC05
, 4C081AC08
, 4C081AC16
, 4C081BA15
, 4C081BA17
, 4C081BB07
, 4C081BB08
, 4C081CF132
, 4C081CF162
, 4C081CG01
, 4C081CG05
, 4C081DC03
, 4C081EA02
, 4C081EA06
, 4C081EA11
, 4C081EA15
, 4C167AA01
, 4C167AA28
, 4C167AA77
, 4C167BB06
, 4C167FF01
, 4C167FF03
, 4G146AA01
, 4G146AA05
, 4G146AA17
, 4G146AB07
, 4G146AC16B
, 4G146AC27A
, 4G146AC27B
, 4G146AD02
, 4G146AD13
, 4G146AD26
, 4G146BA11
, 4G146BA12
, 4G146BA38
, 4G146BA40
, 4G146BC09
, 4G146BC10
, 4G146BC16
, 4G146MA14
, 4G146MB03
, 4K029AA02
, 4K029AA11
, 4K029AA23
, 4K029AA27
, 4K029BA34
, 4K029BB10
, 4K029BD00
, 4K029CA03
, 4K029FA04
, 4K029FA05
, 4K029FA09
, 4K029GA02
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030BA28
, 4K030BA37
, 4K030CA02
, 4K030CA07
, 4K030CA13
, 4K030CA16
, 4K030DA02
, 4K030DA06
, 4K030DA08
, 4K030FA01
, 4K030LA11
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
医療用器具及び医療用器具への硬質被膜形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-181929
Applicant:シチズン時計株式会社
-
特開昭63-286334号公報
Cited by examiner (9)
-
エンジン動弁系部品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-312908
Applicant:株式会社豊田中央研究所
-
磁気記録媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-380474
Applicant:日立マクセル株式会社
-
低摩擦コーティングを備えた弁
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2007-501913
Applicant:ウオーターズ・インベストメンツ・リミテツド
-
高耐摩耗性および高耐焼付き性摺動部材およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-145708
Applicant:株式会社豊田中央研究所
-
非晶質硬質炭素膜及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-135366
Applicant:株式会社リケン
-
耐食性部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-288664
Applicant:株式会社豊田中央研究所
-
特開平3-240957
-
ダイヤモンド状炭素で被覆された医療用装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2007-535672
Applicant:ボストンサイエンティフィックリミテッド
-
シリコンウェーハの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-051321
Applicant:信越半導体株式会社
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