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J-GLOBAL ID:201403014571071602
中性子ミラーの製造方法及び中性子ミラー
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人京都国際特許事務所
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2010123375
Publication number (International publication number):2011247825
Patent number:5552635
Application date: May. 28, 2010
Publication date: Dec. 08, 2011
Claim (excerpt):
【請求項1】 屈折率が異なる2種類の物質の薄膜層から成る対層を積層した多層膜からなる中性子ミラーの製造方法において、
平板状の基板上に、前記多層膜を、前記対層の周期が徐々に小さくなるように、且つ該多層膜に最初に形成する薄膜の厚さが少なくとも60nmで、該多層膜の全厚さが少なくとも2μmとなるように形成する工程と、
前記基板から前記多層膜が剥がれるきっかけとなる剥離誘因部を形成する工程を有することを特徴とする中性子ミラーの製造方法。
IPC (1):
FI (2):
G21K 1/06 D
, G21K 1/06 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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中性子カーボンミラーおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-207408
Applicant:三菱鉛筆株式会社
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中性子反射鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-018254
Applicant:株式会社ニコン
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フィルム状物品及びその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-011376
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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特開昭63-172939
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X線用光学素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-278429
Applicant:キヤノン株式会社
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X線反射鏡、X線結像装置及びX線集光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-335689
Applicant:日東電工株式会社
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