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J-GLOBAL ID：201403016838179907
ヒ素収着材及びヒ素汚染物質の浄化方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大谷 嘉一
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010548489
Patent number：5548956
Application date： Jan. 25, 2010
Claim (excerpt)：
【請求項1】 Mg2+イオンとCa2+イオンとがMg/Ca=0.3以上の割合で含有する水溶液に、可溶性炭酸塩又は炭酸塩の水溶液を混合することで沈殿生成したモノハイドロカルサイトであって、
モノハイドロカルサイト中のモル比でMg/(Ca+Mg)の値が0.1以下であることを特徴とするヒ素収着材。
IPC (4)：
B01J 20/04 ( 200 6.01)
, C02F 1/28 ( 200 6.01)
, B01J 20/30 ( 200 6.01)
, C01F 11/18 ( 200 6.01)
B01J 20/04 A
, C02F 1/28 E
, C02F 1/28 B
, B01J 20/30
, C01F 11/18 B
