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J-GLOBAL ID：201403018934112506

ナノクラスター生成装置

Inventor： 中嶋 敦 ,  角山 寛規 ,  張 初航 ,  赤塚 紘己 ,  塚本 恵三
Applicant, Patent owner： 独立行政法人科学技術振興機構 ,  株式会社アヤボ
Agent (3)： 小西 富雅 ,  中村 知公 ,  木村 誠司
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013112995
Patent number：5493139
Application date： May. 29, 2013
Summary：

【課題】ナノクラスター生成装置において、ナノクラスターのサイズ制御及び構造制御を向上させる。また、サイズ及び構造の少なくとも一方が選択されたナノクラスターの収量および収率を増大させる。 【解決手段】ナノクラスター生成装置10は、真空容器11と、パルス放電を行い、プラズマを発生させるスパッタ源13と、スパッタ源13に対し、パルス状の電力を供給するパルス電源16と、スパッタ源13に対し第1の不活性ガスを供給する第1不活性ガス供給手段17と、真空容器11内に収容されるナノクラスター成長セル12と、ナノクラスター成長セル12内に第2の不活性ガスを導入する第2不活性ガス導入手段18と、を備える。 【選択図】図1

Claim (excerpt)：

【請求項1】 真空容器と、 カソードとしてのターゲットを有し、パルス放電によるマグネトロンスパッタを行い、プラズマを発生させるスパッタ源と、 前記スパッタ源に対し、パルス状の電力を供給するパルス電源と、 前記スパッタ源に対し、第1の不活性ガスを供給する第1不活性ガス供給手段と、 前記真空容器内に収容されるナノクラスター成長セルと、 前記ナノクラスター成長セル内に第2の不活性ガスを導入する第2不活性ガス導入手段と、を備えるナノクラスター生成装置。

IPC (1)：

C23C 14/32 ( 200 6.01)

FI (1)：

C23C 14/32 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 耐剥離性に優れる被覆工具およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2011-243083   Applicant：日立金属株式会社
• クラスターイオンビーム発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-011770   Applicant：株式会社つくばナノ・テクノロジー
• 薄膜形成装置及び薄膜形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-316395   Applicant：キヤノン株式会社
• トナーの製造方法、トナー、2成分現像剤、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-344691   Applicant：株式会社リコー
• 金属クラスター生成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-158697   Applicant：トヨタ自動車株式会社
• クラスター成膜装置及び成膜方法、並びにクラスター生成装置及び生成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-358927   Applicant：財団法人日本産業技術振興協会
• キーワードを取得する方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2012-105957   Applicant：富士通株式会社